[实用新型]液晶显示器及其彩膜基板和偏光片

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示领域，尤其涉及一种液晶显示器及其彩模基板和偏光片。

背景技术

液晶显示器是通过液晶分子的偏转来控制光线的，最初的液晶显示器采用扭曲向列(Twist Nematic，TN)模式，可视角度比较小，为解决这一问题，全球各大厂商和研究机构在液晶材料和液晶面板结构等方面下功夫，开发出了多种宽视角技术。其中，包括水平电场控制模式，其根据具体需要可以有很多种结构。

现有技术中采用水平电场控制模式的一种显示器结构如图1所示，显示器中提供电压驱动液晶偏转的公共电极16和像素电极17都设置于阵列基板11上，通过公共电极16和像素电极17之间产生的水平电场18，来控制液晶分子的偏转程度，因此在彩膜基板12上没有电极对液晶分子起保护作用，当人体从彩膜基板那一侧接触液晶屏尤其是触摸屏时，会有静电转移到液晶屏上，影响液晶分子13的偏转，从而影响画面显示效果，所以需要在彩膜基板12的基板背面，即基板与上偏光片10接触的一面，镀上一层透明导电膜14(Indium Tin Oxides，ITO)来引走静电，获得抗静电的效果。

但对于移动产品的3D显示器，基板的厚度需要小于0.1mm，而双视显示的基板要求更薄，通常小于0.08mm，否则会影响视觉效果。而现有技术中透明导电膜14的制备一般采用溅射镀膜，要求使用的基板不能太薄，同时太薄的基板也会给彩膜基板的制作带来不便，所以目前液晶制造领域采用的基板的厚度为0.5mm，远大于上述要求，因此需要先制作彩膜基板，最后再对彩膜基板的基板进行减薄工艺。

在上述过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

现有技术在水平电场模式的液晶显示器制造过程中，即便先对彩膜基板的基板进行减薄工艺，再沉积ITO，因考虑到后续工序需要在基板背面溅射制备ITO，所以彩膜基板不易减至太薄，否则ITO溅射时能量较高，会将过薄的玻璃基板击穿。另外，ITO膜的形成工艺是真空溅射，成本高，而且当ITO吸收了空气中的水分后，还会影响液晶面板的显示效果。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种液晶显示器及其彩模基板和偏光片，使得显示器在制造过程中可以对彩膜基板的基板进行减薄工艺，基板更薄，因此本实用新型提供的显示器较现有技术轻薄，而且制造工艺简单，易于量产。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种液晶显示器，包括：由阵列基板、彩膜基板和其间的液晶层对盒而成的液晶面板，以及设置在所述液晶面板两侧的偏光片，所述位于彩膜基板一侧的偏光片上或彩膜基板上设置有用于防静电的导电层，所述导电层的材质为透明导电胶。

所述导电层设置有用于引出静电电荷的至少一个接头。

所述液晶显示器，还包括，边框，所述接头与所述边框连接或所述接头与所述显示器的地线相连接。

所述边框上设置有用于与所述接头或所述导电层相连接的连接部。

所述边框与所述连接部一体成型。

一种偏光片，所述偏光片上设置有用于防静电的导电层。

所述导电层设置于所述偏光片两侧的任一表面上或者所述构成所述偏光片的层结构的任意两层之间。

所述导电层的材质为透明导电胶。

一种彩膜基板，所述彩膜基板上设置有用于防静电的导电层，所述导电层的材质为透明导电胶。

本实用新型所述液晶显示器在彩膜基板一侧的偏光片上或彩膜基板上设置有透明导电胶材质的导电层，可以引走静电，无需在彩膜基板背面溅射ITO，可对彩膜基板的基板进行减薄工艺，使基板变得更薄，这样显示器较现有技术更轻薄，同时克服了现有技术中ITO成本高，以及因ITO吸收空气中水分而导致的液晶显示器显示不良的问题，而且采用透明导电胶来制备导电层，制造工艺简单，易于量产。

附图说明

图1为现有技术采用水平电场控制模式的一种显示器的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一中所述液晶显示器的结构示意图；

图3为本实用新型实施例一中的液晶面板的结构示意图一；

图4为本实用新型实施例一中的液晶面板的结构示意图二；

图5为本实用新型实施例一中液晶显示器的边框结构示意图一；

图6为本实用新型实施例一中液晶显示器的边框结构示意图二；

图7为本实用新型实施例二中所述偏光片的结构示意图一；

图8为本实用新型实施例二中所述偏光片的结构示意图二。

附图标记说明：