[实用新型]半导体激光聚焦装置有效

专利信息
申请号: 201120379244.7 申请日: 2011-09-27
公开(公告)号: CN202230235U 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 张勇 申请(专利权)人: 四川航天世都制导有限公司
主分类号: G02B7/04 分类号: G02B7/04;G02B27/30;G02B1/00
代理公司: 北京中海智圣知识产权代理有限公司 11282 代理人: 曾永珠
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 半导体 激光 聚焦 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种半导体激光聚焦装置,尤其是一种对半导体激光阵列发光光源输出的激光进行准直和聚焦的装置。

背景技术

由于半导体激光阵列器件输出激光在相互垂直的方向上发散角相差很大,其发光尺寸也不一样,目前的聚焦装置一般由三个部分组成,首先对输出激光准直,然后对其进行整形,最后用透镜聚焦。这些装置都比较复杂,而且存在加工、装调难度大、制造成本高等缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题而提供一种结构简单、耦合效率高、聚焦稳定性好以及装调方便的激光聚焦装置。

本实用新型是通过以下技术方案实现的:

本实用新型的半导体激光聚焦装置,包括激光准直透镜和激光聚焦透镜,所述激光准直透镜和所述激光聚焦透镜均为圆柱透镜,所述激光准直透镜与所述激光聚焦透镜相互垂直,所述激光准直透镜的直径小于所述激光聚焦透镜的直径。

作为优选,所述激光准直透镜为光纤柱激光准直透镜。

作为优选,所述激光准直透镜和所述激光聚焦透镜由纯石英材料制成。

本实用新型的有益效果是:

(1)结构简单,装配方便;(2)耦合效率高、聚焦稳定性好;(3)成本较低。

附图说明

图1是半导体激光聚焦装置的主视图;

图2是半导体激光聚焦装置的俯视图。

附图标识:

1、激光准直透镜,2、激光聚焦透镜,3、半导体激光陈列器件

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明:

如图1和图2所示,本实用新型半导体激光聚焦装置,包括激光准直透镜1和激光聚焦透镜2,激光准直透镜1和激光聚焦透镜2均为圆柱透镜,激光准直透镜1与激光聚焦透镜2相互垂直,激光准直透镜1的直径小于激光聚焦透镜2的直径。半导体激光阵列器件3的发光光源发出激光,激光准直透镜1对半导体激光阵列器件3的发光光源发出的激光进行准直,然后激光聚焦透镜2对准直后的激光进行聚焦。

激光准直透镜1为光纤柱激光准直透镜。激光准直透镜1和激光聚焦透镜2由纯石英材料制成。

以上所披露的仅为本实用新型的优选实施例而已,当然不能以此来限定本实用新型的权利范围,因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化,仍属本实用新型所涵盖的范围。

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