[实用新型]分析仪用散射光处理盘有效
| 申请号: | 201120373312.9 | 申请日: | 2011-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN202486041U | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
| 发明(设计)人: | 左峰;郑彪 | 申请(专利权)人: | 左峰;郑彪 |
| 主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/47 |
| 代理公司: | 徐州市淮海专利事务所 32205 | 代理人: | 华德明 |
| 地址: | 221006 江苏省徐州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 分析 散射 处理 | ||
【权利要求书】:
1.一种分析仪用散射光处理盘,其特征是:该处理光盘有一基片,在基片上有圆环形分布的透光孔隙,在圆环形分布的透光孔隙二侧均为遮光部位。
2.根据权利要求1所述的分析仪用散射光处理盘,其特征是:所述的孔隙为至少一个透光孔;或者所述的孔隙为多个圆环形分布透光孔;或者所述的孔隙为圆弧形透光带;或者所述的孔隙为圆环形透光带。
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