[实用新型]一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201120373015.4 | 申请日： | 2011-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN202246871U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 胡增鑫;潘清涛;宋鑫;贾海军;麦耀华 | 申请（专利权）人： | 保定天威集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 唐山顺诚专利事务所 13106 | 代理人： | 于文顺 |
| 地址： | 071051 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 集成化 多腔室星型 结构 真空镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，其特征在于包含一个中央传输室（1）、以星型排布的方式环布于该中央传输室周围的多个真空反应腔室和一个进出片室（6），各反应室及一个进出片室与中央传输室之间通过高真空门阀（7）相连。
2.根据权利要求1所述之集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，其特征在于反应室为：PECVD反应室（2）、磁控溅射反应室（3）、HWCVD反应室（4）和MOCVD反应室（5）。
3.根据权利要求1或2所述之集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，其特征在于中央传输室中安装一个高真空机械手。
4.根据权利要求1或2所述之集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，其特征在于门阀两侧与各反应室和进出片室之间通过金属法兰和无氧铜圈密封。
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