[实用新型]反应炉清洗和烘干系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种对反应炉内壁进行清洗和烘干的系统，该系统适用于一些形状类似于钟罩式的反应炉。 

背景技术

多晶硅作为新能源之一，纯度要求很高。使用反应炉制造多晶硅时，在炉内会产生一些氯化聚合物，并有一部分附着在反应炉内壁，这些附着在反应炉内壁的聚合物如果不能被及时清洗处理干净，会使再次生产多晶硅时，降低多晶硅的纯度。因此，为了保证所制造的多晶硅的纯度，必须在前一次反应结束至下一次反应开始之前，及时除去附着于反应炉内壁的聚合物。本实用新型就是以此为目的，设计了一套能够自动清洗和快速烘干反应炉内壁的系统。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一套清洗和烘干反应炉的系统。该系统不仅能够把反应炉内壁完全清洗干净，而且还可以在短时间内把内壁烘干。 

为实现所述目的的反应炉清洗和烘干系统，其特点是，包括：清洗机组本体单元，包括钢结构件支架，由钢结构支架支撑的水池，水池入口的反应炉安放底座、橡胶垫、楔形导向块、反应炉到位检测装置，以及水池中央设置的升降式喷枪单元固定板，其中，水池上有排水口和回水口，排水口外接排水气动球阀，回水口外接回收水气动球阀；可上下升降式喷枪单元，固定在升降式喷枪单元固定板上，包括高压的喷枪、气缸、气缸导向装置，其中气缸与喷枪通过连接块连接；高压泵站系统单元，包括高压泵站、高压泵站水泵入口配的清洗液选择管路以及高压泵站与喷枪之间的高压软管；吹风烘干单元，包括风机系统，连接风机系统的热风集管，连接热风集管的吹风喷嘴，以及焊接在水池侧壁上的吹风喷嘴连接用曲型弯管、排风口；以及控制单元，包括电气控制单元、气路控制单元。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，清洗机组本体单元具有所述六个楔形导向块，在水池入口周向均匀分布。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，清洗机组本体单元中，所述检测装置包括支架和固定在支架上的检测元件。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，清洗机组本体单元设有一套回水过滤装置，回水过滤装置包括气动阀、手动阀及管路。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，可上下升降式喷枪单元中，气缸配有气缸调速阀。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，喷枪由喷枪杆、高压喷嘴、喷嘴旋转用气动马达、直齿轮减速箱、传动杆、锥齿轮组成，气动马达通过直齿轮减速箱连接传动杆，传动杆连接喷枪杆，喷嘴可转动地安装在喷枪杆上，且喷嘴和喷枪杆之间还通过锥齿轮组件连接。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，高压泵站系统单元中，高压泵站入口还设有流量开关，高压泵站出口则有安全保护装置、溢流回水口和出口压力调节器。 

所述的反应炉清洗和烘干系统，其进一步的特点是，风机系统配有过滤器、安全阀、温度计以及消音器。 

本实用新型整个系统通过独立的进液回路，根据程序或现场设定选择不同的清洗介质，进入高压水泵增压，达到固定的压力和流量，可以将移动喷枪上下升降到不同的位置，保证反应炉内壁得到全面清洗，清洗好后的液体可提供回收接口。清洗干净后，风机系统鼓出热风经由吹风喷嘴吹出，短时间内烘干反应炉内壁。 

附图说明

图1是本实用新型反应炉清洗和烘干装置的系统布置图。 

图2是本实用上下升降式喷枪单元结构图。 

图3是本实用新型吹风喷嘴和曲型管路结构图。 

图4是吹风烘干单元的示意图。 

图5是清洗机组本体单元的示意图。 

图6是高压泵站系统单元的示意图。 

图7是控制单元的示意图。 

具体实施方式

如图1～图7所示，本实用新型反应炉清洗和烘干系统包括清洗机组本体单元1、 可上下升降式喷枪单元2、高压泵站系统单元3、吹风烘干单元4、控制单元5。