[实用新型]彩膜基板及电容式触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板及电容式触摸屏。

背景技术

触摸屏液晶显示器发展迅速，已经逐渐发展成为主流平板显示器。液晶显示器的生产制造过程，主要包括：制造出彩膜基板(Color Filter，CF)，包括在基板上形成黑矩阵(Black Matrix，BM)、彩膜层、平坦层及公共电极；制造阵列基板；阵列基板与彩色滤光经过配向处理、对位贴合后灌入液晶，构成液晶盒；组装偏光板、背光源和驱动电路，形成独立的标准外部接口的模块。如图1所示，其中在制造彩膜基板时，需要在基板11上先制作一层黑矩阵12，用于防止各像素的亚像素混色，导致在制作彩膜层(色胶层)时，即制作红(Red，R)，绿(Green，G)，蓝(Blue，B)色胶时表面平整度差，需要通过平坦层13来进行平坦化，才能进行下一步公共电极14的制备。

触摸屏通常是在液晶面板的基础上增加一层用于确定触摸点的传感层制成。电容式触摸屏通常是在彩膜基板的基板背面制作电容，如图2所示，电容由上下两层透明导电膜15(Indium Tin Oxides，ITO)夹一层绝缘层16形成，上下两层透明导电膜15分别作为电容的上极板17和下极板18。当触摸屏被触摸时，触摸点的电容发生变化，引起横纵不同行的电流或者脉冲信号发生变化，从而由横向和纵向的传感器分别感应，确定出触摸点发生的横纵坐标，实现了寻址。

在上述触摸屏的制造过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：需要制作多层，工艺复杂，不符合触摸屏低成本、轻薄化的发展趋势。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及电容式触摸屏，较现有技术中的彩膜基板及电容式触摸屏轻薄，同时，在生产过程中减少了制造层数，优化了生产工艺，降低了成本。

为达到上述目的，本实用新型实施例采用如下技术方案：

一种彩膜基板，包括：基板、形成于基板上的彩膜层，所述彩膜层包括有多个亚像素格，还包括形成于基板上的传感层，所述传感层包括上金属层、下金属层和位于所述上金属层、下金属层之间的绝缘层，所述上金属层、下金属层和所述绝缘层的至少其中之一由遮光材料制成，该由遮光材料制成的结构呈网状并对应遮挡在各亚像素格之间的位置处。

所述传感层中的所述上金属层和所述下金属层均由遮光材料制成，所述上金属层和所述下金属层相互交叠形成网状结构，并对应遮挡在各亚像素格之间的位置处。

所述传感层中的所述绝缘层的材质为透明绝缘材料，所述绝缘层呈薄片状，嵌设在所述上金属层和所述下金属层之间。

所述上金属层为若干个金属条纹等间距横向排列而成的，所述金属条纹由形成电容极板的宽部和形成各电容间引线的窄部间隔相连而成；

所述下金属层为若干个金属条纹等间距纵向排列而成的，所述金属条纹由形成电容极板的宽部和形成各电容间引线的窄部间隔相连而成；

所述横向排列的金属条纹和所述纵向排列的金属条纹相互纵横交叠形成网状结构，并对应遮挡在各亚像素格之间的位置处，所述横向金属条纹的宽部和纵向金属条纹的宽部上下纵横相对分别形成电容的上极板和下极板，所述横向金属条纹的窄部和纵向金属条纹的窄部形成各电容间的引线。

所述传感层中的所述绝缘层由遮光材料制成并呈网状，对应遮挡在各亚像素格之间的位置处，所述传感层中的所述上金属层、下金属层的材质均为透明导电材料。

所述形成于基板上的传感层设置于所述基板及彩膜层之间。

所述形成于基板上的传感层设置于所述基板上，位于所述彩膜层的异侧。

一种电容式触摸屏，包括所述的彩膜基板。

本实用新型提供的一种彩膜基板及电容式触摸屏，所述彩膜基板及电容式触摸屏的传感层中的金属层和绝缘层的至少其中之一由遮光材料制成，能够取代现有技术彩膜基板中的黑矩阵，起到同样的遮挡作用，所以本实用新型中的彩膜基板及电容式触摸屏在生产过程中可省去黑矩阵，有效减小彩膜基板的厚度，而且省去黑矩阵，直接在基板上制作色胶，色胶表面平整度好，不需要制造平坦层对色胶进行平坦化，减少了制造层数，优化了生产工艺，降低了成本，同时较现有技术轻薄。

附图说明

图1为现有技术中电容式触摸屏的彩膜基板结构示意图；

图2为现有技术中电容式触摸屏的电容结构示意图；

图3为本实用新型实施例中的彩膜基板的传感层结构示意图；

图4为本实用新型实施例中传感层的上下金属层遮挡情况示意图；