[实用新型]一种硅片表面损伤层去除装置有效
申请号: | 201120323549.6 | 申请日: | 2011-08-31 |
公开(公告)号: | CN202240820U | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | 汪贵发;蒋建松 | 申请(专利权)人: | 浙江光益硅业科技有限公司 |
主分类号: | B24B19/22 | 分类号: | B24B19/22;B24D3/00 |
代理公司: | 杭州裕阳专利事务所(普通合伙) 33221 | 代理人: | 江助菊 |
地址: | 324200 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 表面 损伤 去除 装置 | ||
【权利要求书】:
1.一种硅片表面损伤层去除装置,其特征在于:包括弹性固定体,所述的弹性固定体两端至中间渐厚,弹性固定体底面设有可随弹性固定体弹性弯折的磨料层。
2.如权利要求1所述的硅片表面损伤层去除装置,其特征在于:所述的弹性固定体上设有握柄。
3.如权利要求1所述的硅片表面损伤层去除装置,其特征在于:所述的磨料层为条状磨料片,所述的磨料片从中间至两侧排列设置于弹性固定体上。
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