[实用新型]一种可调式防辐射挡帘有效

专利信息
申请号: 201120317779.1 申请日: 2011-08-29
公开(公告)号: CN202339719U 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 陈原;奚正山 申请(专利权)人: 合肥美亚光电技术股份有限公司
主分类号: G21F3/00 分类号: G21F3/00
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230088 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 调式 防辐射
【说明书】:

技术领域:

    本实用新型属于安全防护领域,尤其涉及一种可调式防辐射挡帘。

背景技术:

X光等特种光具有普通光所不具备的穿透效应,因而被广泛的应用于产品内部缺陷检测等领域。但是,因为X光等特种光对人体具有一定的伤害,所以在使用过程中要进行防护,避免照射到人体。如履带式X光检测设备都在检测通道出入口上布置防辐射挡帘用以阻断X光线泄漏,起到安全防护的目的。但是,在被检测物体经过防辐射挡帘时,会导致挡帘产生缝隙,X光线会从这些缝隙中向外泄漏,造成了一定的安全隐患。为了解决物体经过防辐射挡帘时引发的X光线泄漏,目前普遍采用的方法是固定安装双层挡帘。但是,这种固定安装的防辐射挡帘又存在间距不能调整的弊端,这就导致以下两个不良后果:1.当被检测物体的长度大于双层挡帘的间距时,双层挡帘并不能有效防止X光线泄漏;2.当双层挡帘的间距明显大于被检测物料的长度时,就会影响挡帘前待检物料的准备轨道长度,造成轨道空间的浪费。为满足待检物体通过时至少有一块防辐射挡帘处于未被掀起状态,同时又节省挡帘前轨道的占用长度,现有技术多采用根据待检物体长度大小配备多套相应间距双层挡帘的方式进行解决。而这又存在着备件增加、需要根据被检物体长度进行频繁更换、增加劳动强度和影响生产效率的弊端。

实用新型内容:

本实用新型目的就是为了弥补已有技术的缺陷,提供一种可调式防辐射挡帘,它可以根据待检物体的长度进行防辐射挡帘间距调整,在满足待检物体通过时至少有一块防辐射挡帘处于未被掀起状态同时,又节省挡帘前轨道的占用长度。

本实用新型是通过以下技术方案实现的:

一种可调式防辐射挡帘,包括有框架以及分别位于框架前、后两端的前、后防辐射挡帘,前、后防辐射挡帘的上沿部位分别安装有安装杆,其特征在于:所述框架两侧的侧板上分别设有导槽,前、后防辐射挡帘上的安装杆两端分别插入对应侧的导槽内并与其滑动配合。

一种可调式防辐射挡帘,其特征在于:所述框架包括有串接的基本框架和活动框架,基本框架和活动框架的两侧侧板上分别开有相互对应的导槽;所述活动框架一端敞开,活动框架两侧侧板的敞开端分别叠合在基本框架上两侧侧板的外侧;有固定销分别插装在两侧叠合部的导槽中。

一种可调式防辐射挡帘,其特征在于:所述前、后防辐射挡帘上的安装杆两端分别滑动装配在基本框架和活动框架两侧侧板上的导槽中。

一种可调式防辐射挡帘,其特征在于:所述基本框架和活动框架上分别设有悬挂架。

一种可调式防辐射挡帘,其特征在于:所述前、后防辐射挡帘的上沿部位分别连接有连接帘套,所述安装杆套入连接帘套中。

本实用新型中的活动框架安装在基本框架上可伸缩调节,前、后防辐射挡帘分别安装在基本框架以及活动框架上。优选的,基本框架安装在检测室一侧,活动框架安装在远离检测室一侧,以利于调整间距时节省挡帘前待检物料的准备轨道长度。

本实用新型可以通过调整前、后防辐射挡帘分别在基本框架和活动框架上的位置,来控制前、后防辐射挡帘之间的距离。同时,也可以通过调整基本框架和活动框架之间的位置来控制前、后防辐射挡帘之间的距离。

本实用新型的优点是:

本实用新型结构设计巧妙,它可以根据待检物体的长度进行防辐射挡帘间距调整,在满足待检物体通过时至少有一块防辐射挡帘处于未被掀起状态同时,又节省挡帘前轨道的占用长度。

附图说明:

图1为本实用新型的立体图。

图2为本实用新型的主视图。

图3为基本框架的结构示意图。

图4为活动框架的结构示意图。

图5为防辐射帘的结构示意图。

图中部件名称:1:基本框架;1a:基本框悬挂架;2:防辐射挡帘;2a:连接帘套;3:活动框架;3a:活动框架悬挂架;4:固定销;5:安装杆

具体实施方式:

参见附图。

一种可调式防辐射挡帘,包括有框架以及分别位于框架前、后两端的前、后防辐射挡帘2,前、后防辐射挡帘2的上沿部位分别连接有连接帘套2a,有安装杆5套入连接帘套2a中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥美亚光电技术股份有限公司,未经合肥美亚光电技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120317779.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top