[实用新型]一种操作手柄有效

专利信息
申请号: 201120289500.3 申请日: 2011-08-10
公开(公告)号: CN202205121U 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 邢皓宇 申请(专利权)人: 邢皓宇
主分类号: G05G1/10 分类号: G05G1/10
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 苟明英
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 操作 手柄
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种操作手柄,更具体的说,涉及一种通过磁力牵引的操作手柄。

背景技术

传统利用磁力牵引的操作手柄一般在操作装置一侧设置磁块,直接在非导磁介质表面滑动,由于采用滑动的方式摩擦力大,操作力度较大,控制精度也不容易把握,操作很不方便,而且直接在接触面滑动也容易刮花表面。市面上有一种采用普通滚轮的操作手柄,可以直接在接触面滚动,操作方便,但当操作装置上沿接触面方向的动力撤销时,如果操作装置的重力在沿接触面水平方向有分力,那么仅靠圆形滚轮和接触面的摩擦力不足以使操作装置停止运动,需要增加额外的限位机构;即便是操作装置水平放置,轻微的触碰和振动也容易使其滑动,限位效果不理想。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可自动限位功能的操作手柄。

一种操作手柄,包括设置在非导磁介质一侧的操作装置、与设置在非导磁介质另一侧的牵引装置,所述操作装置和牵引装置之间至少有一个包含磁性材料,两者之间通过磁力连接;所述操作装置和牵引装置之间至少有一个包括有第一支撑结构,第一支撑结构上固定有第一转轴,第一转轴上安装带有阻力位置的滚轮,该滚轮在一个转动周期内,至少有一个与非导磁介质的接触位置离第一转轴最近。

优选的,所述滚轮垂直转轴的截面为圆形,所述转轴偏离圆心,只需将转轴偏离圆心即可,这种滚轮的加工最为简单,成本较低。

优选的,所述转轴距离圆心的距离在0.05mm~0.5mm之间,这样可以在保障可靠限位的同时,取得较好的手感。

优选的,所述转轴距离圆心的距离在0.1mm~0.3mm之间,提供更优选的数值范围,在保障可靠限位的同时,取得更好的手感。

优选的,所述滚轮轮面有一个平面,平面之间通过向外弯曲的弧面连接,滚轮接触面为平面时,轴心距离接触面最近,可以实现自动限位,非阻力位置为弧面,滚动过程比较流畅,手感较好。

优选的,所述滚轮轮面上有一个沿转轴方向的凹槽。凹槽可以节省滚轮的材料。

优选的,所述的操作手柄还包括第二支撑结构,所述第二支撑结构上固定有第二转轴,第二转轴上安装有所述滚轮;所述第一支撑结构和第二支撑结构分别设置在操作装置和牵引装置上,两边都设有所述滚轮,可彻底避免操作手柄刮花非导磁介质表面。

优选的,所述磁性材料设置在第一支撑结构上,可以根据应用场合不同,方便选用适配的磁性材料。

优选的,所述磁性材料设置在第二支撑结构上,可以根据应用场合不同,方便选用适配的磁性材料。

本实用新型采用带有阻力位置的滚轮,滚轮上与非导磁介质的接触位置离转轴所在的轴线最近的位置处自动形成阻力位置,当滚轮处于该位置时撤销操作手柄上的动力,此时,如果非导磁介质是水平的,当手柄受到轻微的水平推力,导致滚轮阻力位置偏离接触面悬空,此时在垂直与接触面的重力和磁力作用下,会将滚轮拉回阻力位置,使操作手柄保持静止状态;如果非导磁介质是倾斜的,重力在平行非导磁介质表面产生的水平分力驱使滚轮继续转动,但重力在垂直非导磁介质表面产生的压力和磁力叠加,在阻力位置偏离接触面悬空时,会产生跟重力的水平分力方向相反的应力,再加上滚轮和接触面的摩擦力,只要磁力配置得当,就可以维持操作手柄的静止状态;如果非导磁介质是竖直的,此时磁力在在阻力位置偏离接触面悬空时会产生跟操作手柄重力相反的作用力,再加上滚轮和接触面的摩擦力,只要磁力配置得当,就可以维持操作手柄的静止状态。

附图说明

图1是本实用新型实施例的整体示意图;

图2是本实用新型滚轮实施例一垂直轴线的剖面图;

图3是本实用新型滚轮实施例二垂直轴线的剖面图;

图4是本实用新型滚轮实施例三垂直轴线的剖面图;

图5是本实用新型滚轮实施例四垂直轴线的剖面图;

图6是本实用新型滚轮实施例五垂直轴线的剖面图;

其中:1、操作装置;21、第一支撑结构;22、第二支撑结构;3、滚轮;31、第一滚轮;32、第二滚轮;41、第一磁性材料;42、第二磁性材料;5、牵引装置;6、非导磁介质;71、第一转轴;72、第二转轴;9、轴线。

具体实施方式

下面结合附图和优选实施例对本实用新型作进一步说明。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于邢皓宇,未经邢皓宇许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120289500.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top