[实用新型]一种新型等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201120288544.4 | 申请日： | 2011-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN202183908U | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 温贻芳;陈新;芮延年;王红卫 | 申请（专利权）人： | 苏州工业职业技术学院 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 215104 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 等离子体 处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述处理装置整体处于负压环境，其包含自内而外相嵌套的内管、绝缘管和外管，其中内管接高频电源，外管接地，该两者均为金属管，且两者由中间的绝缘管隔开绝缘；所述处理装置的三层套管结构一端设为气源接口，另一端封闭，且处理装置穿透内管、绝缘管及外管设有至少一个排孔，所述排孔相对待处理材料的距离满足等离子体中电子或离子自我消除，仅保留激发态粒子。
2.根据权利要求1所述的一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述排孔为绝缘管孔径相对内、外管孔径呈收缩状的射流结构。
3.根据权利要求1所述的一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述处理装置的三层套管结构上轴向延伸排列设有两个以上排孔。
4.根据权利要求1所述的一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述处理装置的三层套管结构上轴向错位排列设有两个以上排孔。
5.根据权利要求1所述的一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述处理装置的三层套管结构上沿同一径向平面排列设有两个以上排孔。
6.根据权利要求1所述的一种新型等离子体处理装置，其特征在于：所述处理装置设有用于驱动自身径向移动、对大面积待处理材料进行等离子体表面处理的驱动模块。
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