[实用新型]促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构

权利要求书

1.促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构，包括匀气罐（1），其特征在于所述匀气罐（1）为圆盘形开口的空腔结构，所述匀气罐（1）上端中心位置设有进气口（6），匀气罐（1）的空腔内设有上匀气盘（2），所述匀气罐（1）的下端开口安装有下匀气盘（3），所述上匀气盘（2）为弧形结构，其中凹弧面与进气口（6）相对，所述下匀气盘（3）上均匀分布有小孔（7），小孔（7）按所在轴向位置不同而直径不同。

2.根据权利要求1所述的促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构，其特征在于所述上匀气盘（2）通过两个以上、可调整匀气盘（2）位置的螺栓（4）连接于匀气罐（1）。

3.根据权利要求1或2所述的促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构，其特征在于所述上匀气盘（2）上均匀分布有2～5圈孔径渐变的气孔（8）。

4.根据权利要求1所述的促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构，其特征在于所述下匀气盘（3）通过螺钉（5）连接于匀气罐（1）的下端。

5.根据权利要求1所述的促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构，其特征在于所述小孔（7）两端为相对的锥形孔，两个锥形孔顶端相连通。