[实用新型]低噪声低失调电压的霍尔传感器有效
申请号: | 201120271648.4 | 申请日: | 2011-07-28 |
公开(公告)号: | CN202167545U | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 陈宏冰;徐敏;曾科;陈忠志 | 申请(专利权)人: | 上海腾怡半导体有限公司 |
主分类号: | H01L43/06 | 分类号: | H01L43/06;H01L43/04 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 邓琪 |
地址: | 201206 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 噪声 失调 电压 霍尔 传感器 | ||
1.低噪声低失调电压的霍尔传感器,包括霍尔元件,其特征在于,所述霍尔元件为圆形,包括在N型晶圆上淀积形成的N型外延层以及在N型晶圆上形成的圆形高压P阱隔离环。
2.根据权利要求1所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,所述隔离环包括在N型晶圆上形成的P型埋层、在P型埋层上扩散生成的高压P阱和低压P阱、以及在所述低压P阱内的P+注入区。
3.根据权利要求2所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,还包括四组成圆周均布的扩散区。
4.根据权利要求3所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,所述扩散区包括在所述N型外延层上扩散生成的高压N阱和低压N阱,以及在所述低压N阱内的N+注入区。
5.根据权利要求4所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,还包括在对应的所述P+注入区、N+注入区剥离氧化物形成接触孔后淀积金属引出的霍尔元件端子。
6.根据权利要求1所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,在所述隔离环外设有一圈在所述N型外延区域形成的接地的P+注入区。
7.根据权利要求1所述的低噪声低失调电压的霍尔传感器,其特征在于,所述高压P阱的掩模层比P型埋层的掩模层大0.05um。
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