[实用新型]一种石墨太阳能硅片加热炉有效
申请号: | 201120263179.1 | 申请日: | 2011-07-22 |
公开(公告)号: | CN202188756U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 沈彪;李向清;胡德良 | 申请(专利权)人: | 江阴市爱多光伏科技有限公司 |
主分类号: | F27B14/18 | 分类号: | F27B14/18;F27B14/06;H01L31/18 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 太阳能 硅片 加热炉 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种太阳能硅片加工设备,具体涉及一种石墨太阳能硅片加热炉。
背景技术
近年来,微/纳米材料的用途十分广泛,其中石墨单太阳能硅片的制备具有十分重要的意义。目前已有人用粘胶带去粘块状石墨的方法,从块状石墨上粘下石墨太阳能硅片。但工效相当低,难以形成产业化生产。其次,石墨单太阳能硅片上会粘有一些粘胶带的物质,影响了石墨单太阳能硅片的纯度。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的缺陷,提供一种高效制备石墨太阳能硅片的加热炉。
为实现上述目的,本实用新型的技术方案是提供了一种石墨太阳能硅片加热炉,其特征在于,所述加热炉包括炉体,在所述炉体内设有石英加热管、空气管和坩埚,在所述炉体的炉口上设有风扇,所述空气管的一端与炉体外的气源连接。
作为优选的技术方案,所述的空气管由外管和盘管构成;外管的一端置于炉体内,设有外螺纹,另一端连接与炉体外的气源连接;所述盘管绕坩埚外盘旋若干圈,其一端置于坩埚内;另一端含有内螺纹,其与外管的外螺纹连接。
作为优选的技术方案,所述坩埚设有坩埚盖和手柄,坩埚盖和手柄固定连接,坩埚盖与坩埚铰链连接;转动手柄,坩埚盖绕铰链摆动用于开合坩埚。
作为优选的技术方案,所述的炉体设有炉门和炉门口;所述炉门 口和炉门各设有一个半圆孔,关上炉门,所述的两个半圆孔合在一起,形成一圆孔。
本实用新型的优点和有益效果在于:用该加热炉生产的石墨太阳能硅片具有工效高,产品质地纯净等特点。
附图说明
图1是本实用新型石墨太阳能硅片加热炉的结构示意图;
图2是本实用新型太阳能硅片加热结束后的状态图;
图3是本实用新型石墨太阳能硅片加热炉的立体示意图;
图4是图3的局部放大视图A;
图5是本实用新型加热炉中坩埚的立体示意图;
图6是图5的局部放大视图B。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
如图1所示,本实用新型石墨太阳能硅片加热炉主要由炉体11、石英加热管12、空气管13、风扇7和坩埚10组成;风扇置于炉体的炉口16,空气管13和坩埚10置于炉体11内。空气管13由外管131和盘管132构成;外管的一端1311置于炉体内,且设有外螺纹,另一端1312与炉体外的气源连接;盘管132绕坩埚10外盘旋若干圈,其一端1321置于坩埚10内;另一端1322含有内螺纹,其与外管的一端1311螺纹连接。盘管132与外管131使用螺纹连接的目的在于两者可以分开(外管131可以转动),坩埚10可以连同盘管132一起拉出炉门111外。
如图5所示,坩埚10设有坩埚盖101和手柄102,坩埚盖101和手柄102固定连接,坩埚盖101与坩埚10通过铰链103连接;转动手柄102,锅盖101绕铰链103摆动,用于开合坩埚100。
如图3、图4所示,炉体11设有炉盖113、炉门111和炉门口112; 炉门口和炉门各设有一个半圆孔1111和1121,关上炉门,所述的两个半圆孔合在一起,形成一圆孔1140,该圆孔114正好容纳手柄1020,这样操作人可以在炉体外操作手柄,打开或合上坩埚盖101。
按图1所示,先将装有石墨5的坩埚10放入炉体11中,然后升温到1000℃以上,保温40分钟。石墨晶体中层与层之间属于分子晶体,是以范德华力结合起来的。当温度达到1000℃以上,石墨晶体中层与层之间的范德华力就会消失。此后,打开坩埚盖101和炉盖113如图2所示,与此同时,对准石墨,喷入空气14(喷入的空气由于经过盘绕的空气管13,得到加温,故喷在石墨上不致于使石墨快速降温至1000℃以下。另一种方法是:喷入的空气本身已经在炉体外经过其它方法加热过的,这样效果更好一些)。已失去范德华力的石墨,受加热的空气14冲击后,形成的一些单太阳能硅片和一些尚未成为单太阳能硅片的石墨粉状物。这些石墨粉状物随着热空气的上升,经过电阻加热炉的导流道6,逸出炉口16。这时被位于电阻加热炉口的风扇7吹向箭头所示方向。由于物质的自重因素,石墨单太阳能硅片将被吹得最远,从而在石墨太阳能硅片下落的最远处,可以收集到石墨单太阳能硅片。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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