[实用新型]一种坩埚罩和坩埚系统有效
| 申请号： | 201120263033.7 | 申请日： | 2011-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN202164375U | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 黄水霞;曾国伟;王伟亮;庞昭 | 申请（专利权）人： | 浙江思博恩新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B11/00 | 分类号： | C30B11/00;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 314117 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 系统 | ||
1.一种坩埚罩，其特征在于，包括周向封闭的罩壁(11)和设置在所述罩壁(11)的中部的定位凸起(12)，所述罩壁(11)与所述定位凸起(12)的材质均为氮化硅。
2.如权利要求1所述的坩埚罩，其特征在于，所述定位凸起(12)设置在所述罩壁(11)的外侧，距离所述罩壁(11)的其中一个沿边的距离为30mm-40mm，距离所述罩壁(11)的另一沿边的距离为50mm-70mm。
3.如权利要求1或2所述的坩埚罩，其特征在于，所述定位凸起(12)呈封闭状分布在所述罩壁(11)上。
4.如权利要求1或2所述的坩埚罩，其特征在于，所述定位凸起(12)呈间歇状分布在所述罩壁(11)上。
5.如权利要求1或2所述的坩埚罩，其特征在于，所述罩壁(11)为矩形结构。
6.一种坩埚系统，包括坩埚(2)，其特征在于，还包括坩埚罩(1)，所述坩埚罩(1)包括周向封闭的罩壁(11)和设置在所述罩壁(11)的中部的定位凸起(12)，所述罩壁(11)与所述坩埚的埚壁相贴合，且所述坩埚的沿边与所述定位凸起(12)相抵触，所述罩壁(11)与所述定位凸起(12)的材质均为氮化硅。
7.如权利要求6所述的坩埚系统，其特征在于，所述定位凸起(12)设置在所述罩壁(11)的外侧，距离所述罩壁(11)的其中一个沿边的距离为30mm-40mm，距离所述罩壁(11)的另一沿边的距离为50mm-70mm。
8.如权利要求6或7所述的坩埚系统，其特征在于，所述定位凸起(12)呈封闭状分布在所述罩壁(11)上。
9.如权利要求6或7所述的坩埚系统，其特征在于，所述定位凸起(12)呈间歇状分布在所述罩壁(11)上。
10.如权利要求6或7所述的坩埚系统，其特征在于，所述罩壁(11)为矩形结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江思博恩新材料科技有限公司，未经浙江思博恩新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120263033.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
