[实用新型]用于研磨金属产物的研磨装置有效

专利信息
申请号: 201120255256.9 申请日: 2011-07-19
公开(公告)号: CN202174477U 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 君特·席勒 申请(专利权)人: SMS逻辑系统股份有限公司
主分类号: B24B27/033 分类号: B24B27/033;B24B27/04
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;赵爱军
地址: 德国涅*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 研磨 金属 产物 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种通过研磨或抛光来回收材料的装置,特别是涉及一种用于研磨金属产物的研磨装置。

背景技术

连续铸造产物——特别是钢板——大多在连续铸造后,利用研磨作表面处理,以便在该产物加工时达成充分质量。在研磨连续铸造的钢板时,该钢板一般作往复运动,在一研磨装置(研磨机组)下方沿纵方向来回运动。在每次往复运动终了时,研磨装置完成分段式的横推进运动,直到整个钢板表面研磨过为止,在研磨时钢板在一研磨枱上以其长的宽度侧支持成横卧状。欧洲专利EP 0053274A1中提到一种此类习知的研磨钢板的装置。

在钢板的所谓的HP研磨(高压研磨)的场合,基于经济理由,在此,如果马达的驱动功率提高(例如当研磨盘宽度加倍时从315千瓦上升到630千瓦),可将研磨盘宽度加大使研磨功率提高;但研磨盘的宽度受研磨盘的制造程序、及研磨盘的结合剂强度限制;实际上,使用的研磨盘宽度没有超过150mm的。

因此习知技术系一研磨心轴上使用数个(特别是二个)研磨盘,相邻而设。然而在此,其缺点如下:当研磨时,研磨盘与研磨物之间的接触区域在研磨盘的宽度范围移动,而且受钢板往复运动影响,接触区域从研磨盘外缘周期性地来回移动到研磨盘中央。因此,将接触区域加宽以及将驱动功率提高不一定能如所愿地提高研磨功率,而可能只造成研磨盘的停转时间增加。

至今并没有人认为在驱动功率加倍时,在一驱动心轴上使用双倍研磨盘也可造成研磨速率加倍。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于研磨金属产物的研磨装置,上述那种驱动功率的提高直接使本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置的研磨速率提高,在金属产物如钢板、钢条(Knüppel,英:billet)及钢块研磨时,研磨程序的经济性得到很大改善。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,用于研磨一连续铸造的钢板、钢条、或钢块,所述研磨装置至少有二个研磨机组,各研磨机组有一保持件以将一研磨单元保持住,其中一研磨单元至少有一受驱动的研磨盘,所述研磨盘的旋转轴互相平行延伸。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,各保持件支承成可绕一轴旋转,所述轴平行于所述研磨盘的旋转轴且距所述旋转轴有一段距离。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,包括调整装置,用于调整所述研磨盘的旋转轴与保持件的旋转轴之间的距离。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述用于调整距离的调整装置包含一偏心轴。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,各保持件包含一直线导引件,用以将所述研磨盘垂直于其旋转轴移动。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述研磨机组分别包含一负荷装置,以将所述研磨盘的一定压迫力施加到所述金属产物,所述负荷装置包含一研磨压力缸活塞系统。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述研磨机组可共同绕一轴旋转,所述轴垂直设置且垂直于所述研磨盘的旋转轴,所述旋转轴位于所述研磨盘的接触区域中,所述旋转轴位于在所述二研磨机组的研磨盘之间。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述研磨机组的研磨盘设成互相直接相邻。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述研磨机组的研磨盘有不同的颗粒度及/或构造。

本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,其中,所述研磨盘受驱动马达直接驱动,而没有设在其间的联动装置或其它组件。

利用本实用新型的用于研磨金属产物的研磨装置,可使得此研磨装置的驱动功率提高时,研磨功率(研磨速率)直接成比例提高,特别是可使研磨功率分配到研磨盘,使各研磨盘有一自己的接触驱动器。特别是可使研磨功率分配到研磨盘,使各研磨盘有一自己的接触区域。

附图说明

图1是本实用新型的研磨装置的一研磨机组的示意图的主视图;

图2是图1所示的研磨机组的仰视图;

图3是一个具有二个研磨机组的研磨装置的示意图的俯视图;

图4是图3的研磨装置的研磨盘的接触区域的放大示图。

具体实施方式

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