[实用新型]一种LOW-E镀膜玻璃

权利要求书

1.一种LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基底层，以及与所述玻璃基底层依次叠加设置的第一电介质层、第二电介质层、第一阻挡层、金属氧化物保护层、银层、第二阻挡层、第三电介质层、顶层电介质保护层。

2.根据权利要求1所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层、第二电介质层、金属氧化物保护层、第三电介质层、顶层电介质保护层选自金属氧化物层、氮化物层或金属氧化物与氮化物混合的混合物层。

3.根据权利要求1所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层、第二电介质层、金属氧化物保护层、第三电介质层、顶层电介质保护层选自TiO₂层、ZnSnO_x层、SnO₂层、ZnO层、SiN_xO_y层、BiO₂层、Al₂O₃层、Nb₂O₅层、Si_xN_y层、Si₃N₄层中的至少一层。

4.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层的厚度为5～15nm。

5.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层的厚度为25～65nm。

6.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述金属氧化物保护层厚度为3～10nm。

7.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第三电介质层的厚度为5～20nm。

8.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述顶层电介质保护层的厚度为25～65nm。

9.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述第一阻挡层、第二阻挡层选自NiCr层、Nb层、Cr层、NiCrO_x层、NbO_x层、CrO_x层、NiCrN_x层、NbN_x层、CrN_x层中的一层或多层；所述第一阻挡层、第二阻挡层的厚度为1～10nm。

10.根据权利要求1至3任一所述的LOW-E镀膜玻璃，其特征在于：所述 银层的厚度3～12nm。