[实用新型]流体调节器

说明书

技术领域

本公开大体上涉及流体调节器，特别地涉及压强平衡流体压强调节器。 

背景技术

流体阀门和调节器通常散布在整个过程控制系统中，以控制各种流体(例如液体、气体等等)的流动速率和/或压强。特别地，流体调节器典型地被用于减少流体的压强并将该压强调节至一实质上恒定的值。特别地，流体调节器具有入口，该入口典型地接收处于相对高压强的供应流体，并且该调节器在出口提供相对低的压强。通过限制流通过一孔的流动，入口压强被减少为一较低的出口压强，以匹配波动的下游需求。例如，与设备(例如锅炉)的相关联的气体调节器可以从一气体分配源接收具有相对高的并且稍微可变的压强的气体，并且可以将该气体调节成具有较低的、实质上恒定的压强，适合于该设备安全有效的使用。 

实用新型内容

与已知的、常常使用管道将流动控制构件耦接至致动器的流体调节器相比，这里描述的该示例的流体调节器使用阀杆将流动控制构件耦接至致动器。在一些例子中，该阀杆可以包括一个通道，以使该流动控制构件压强平衡，因此需要较少的力来打开和/或关闭该流动控制构件。因此，可以提供较小的致动器，由此降低了成本。另外，相比于传统的座圈，这里描述的该示例的流体调节器使用提供了由弹性材料(例如，弹性密封件、盘或环)所构成的支承面的阀座或座圈。因此，显著地降低或避免了由于例如工艺流中的流动冲击或微粒产生的对弹性密封件的磨损。 

在一个例子中，流体调节器包括一个流体流动控制构件，其被放置于阀体的流体流动通道中，且相对于座圈移动以调整通过该流体流动通道的流体流动。阀杆将该流体流动控制构件耦接至致动器。该阀杆具有一通路以允许来自于流体流动通道的入口的流体在该流动控制构件的第一侧和该流动控制构件的与该第一侧相对的第二侧之间流过该流动控制构件，以使该流体流动控制构件压强平衡。 

在另一个例子中，流体调节器包括流动控制构件，其位于由阀体限定的流体流动通道中。该流动控制构件具有金属的密封表面，该表面将相对于位于该流体流动通道中的座圈的弹性体支承面移动。该金属密封表面通过盘定位器被耦接至盘保持器。阀杆可操作地将该流动控制构件耦接于致动器的膜片。该流动控制构件被通过该定位器螺纹地耦接于该阀杆的第一端，并且该阀杆的与该第一端相对的第二端被通过膜片板直接地耦接于该致动器的该膜片。 

在另一个例子中，流体调节器包括用于调整通过流体调节器的通道的流体流动的装置，其中该调整装置包括通过定位器被耦接至盘保持器的金属密封表面；以及用于致动该流体流动调整装置的装置，该致动装置通过阀杆被可操作地耦接于该调整装置，该阀杆具有用于使该流体流动调整装置压强平衡的装置。 

附图说明

图1A是已知的流体调节器的、剖开的横截面视图； 

图1B是图1A中的已知的流体调节器的一部分的、放大的横截面视图； 

图2是这里描述的示例的压强平衡的流体压强调节器的横截面视图； 

图3是图2的示例的流体调节器的一部分的另一横截面视图； 

图4是图2的示例的流体调节器的放大的、局部横截面视图； 

图5是图2的流体调节器的示例的过滤器的横截面视图。 

具体实施方式

根据本发明的一个方面，一种流体调节器包括：流体流动控制构件，其被放置于阀体的流体流动通道中，该流动控制构件用于相对于座圈移动以调整通过该流体流动通道的流体流动；以及阀杆，用于将该流体流动控制构件耦接至致动器，该阀杆具有一通路以允许来自于所述流体流动通道的入口的流体在该流动控制构件的第一侧和该流动控制构件的与该第一侧相对的第二侧之间流过该流动控制构件，以使该流体流动控制构件压强平衡。 

根据本发明的一个实施例，所述通路包括第一路径和第二路径。 

根据本发明的一个实施例，所述第一路径包括在所述阀杆中的第一孔腔，该第一孔腔具有实质上平行于所述阀杆的纵向轴的轴，且所述第二路径包括第二孔腔，该第二孔腔具有与所述阀杆的纵向轴交叉的轴。 

根据本发明的一个实施例，流体调节器还包括座圈，以及其中，所述流动控制构件将相对于该座圈移动，且其中所述座圈定义了所述流体流动通道的孔。 

根据本发明的一个实施例，所述座圈的至少一部分包含弹性环。 

根据本发明的一个实施例，所述座圈包含由金属材料构成的第一部分和由弹性材料构成的第二部分。 

根据本发明的一个实施例，所述流动控制构件包括由金属材料构成的密封盘，其通过盘定位器被耦接于盘保持器。