[实用新型]平衡检测共聚焦显微镜成像系统有效
申请号: | 201120235970.1 | 申请日: | 2011-07-06 |
公开(公告)号: | CN202204470U | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 黄书伟;李选德 | 申请(专利权)人: | 黄书伟;李选德 |
主分类号: | G01B9/04 | 分类号: | G01B9/04;G01B11/24;G02B21/36;G02B21/00 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所 11301 | 代理人: | 牟长林 |
地址: | 中国台湾台北市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平衡 检测 聚焦 显微镜 成像 系统 | ||
1.一种平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,其包含:
一个光源;
一个光束放大器,该光束放大器接收来自该光源的光束并经散射后放大该光束的截面;
一个聚焦机构,该聚焦机构通过聚焦该光束放大器的光束以将光束聚焦到待测样品上;
一个扫描机构,该扫描机构能调整该聚焦机构相对于该样品的轴向深度,并在不同深度处的样品平面上移动以使得该光束在不同的样品点上聚焦并产生反射光束;
一个等量分束器,将该反射光束分成两等量光束;
一个大面积光检测器,接收来自该等量分束器的其中一道光束,并测得该光束的信号强度;
一个针孔,接收来自该等量分束器的另一道光束;
一个光束倍增管,接收来自该针孔的光束的信号,并测得此光束的信号的强度;
一个处理器,接收来自该光束倍增管及该大面积光检测器所检测的信号的信号强度,并经过校准的程序以得到校准后的反射信号强度;并应用在不同的轴向深度处的不同截面上所得到信号强度重建该样品的影像。
2.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,尚包含:
一个控制器,该控制器控制该扫描机构的二维扫描光学装置及物镜的位置以使得该二维扫描光学装置及该物镜能沿着轴向进行不同轴向点处的二维扫描;
一个用于记录相关资料的存储器,其中相关资料包含来自该大面积光检测器及该光束倍增管的信号值、该二维扫描光学装置及该物镜的相对位置及坐标。
3.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,尚包含:
一个用于显示相关资料及处理结果的显示器。
4.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,尚包含一个用于导引该截面放大的光束进入该扫描机构且导引该反射光束进入该分束器的导光装置,其特征在于,该导光装置包含:
一个主要是由两个介电系数不同的棱镜所构成的极化分束器,位于该光束放大器的后方;其使从第一面射入的光束直接穿过该分束器,而从第二面射入的光束,于第一面的边界处产生全反射;
一个四分之一波长光板,位于该极化分束器该后方,该四分之一波长光板包含反向的第一端及第二端,其使进入第一端的入射光及从第二端通过的反射光之间的极性相差90度,以使反射光束由第二端进入该极化分束器的两棱镜的界面时会被反射,而不会穿过该界面。
5.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,该扫描机构为一个二维扫描光学装置,其包含一面镜面,且由驱动装置驱动,借助该二维扫描光学装置的移动改变入射光反射后的路径,以使该反射后的光束扫描过一个照射物体。
6.根据权利要求5所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,该聚焦机构为一个压电转换器驱动的物镜,其随着该二维扫描光学装置的位置改变而改变此压电转换器驱动的物镜使得该压电转换器驱动的物镜对准由该二维扫描光学装置反射的光线。
7.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,该光源为线性极化光源。
8.根据权利要求1所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,由该大面积光检测器及该光束倍增管所得到的信号经模数转换器转换成数字信号。
9.根据权利要求6所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,该放大截面的光束通过一个极化分束器及一个四分之一波长光板;且该光束经该压电转换器驱动的物镜后照射到该样品,此光束经该样品反射,并经该二维扫描光学装置反射后以反方向入射该四分之一波长光板,并在该极化分束器上的两棱镜的界面处反射向该等量分束器。
10.根据权利要求2所述的平衡检测共聚焦显微镜成像系统,其特征在于,应用压电转换器驱动该物镜。
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