[实用新型]制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具有效

专利信息
申请号: 201120218247.2 申请日: 2011-06-24
公开(公告)号: CN202141669U 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: 刘飞华;刘晓军;李岩;方可伟;李成涛 申请(专利权)人: 苏州热工研究院有限公司;中国广东核电集团有限公司
主分类号: G01N17/00 分类号: G01N17/00
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙仿卫
地址: 215004 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 制作 均匀 腐蚀 试验 样品 支架
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及均匀腐蚀试验,特别是,涉及一种制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具。

背景技术

在均匀腐蚀试验中,为取得真实、有效的试验结构,各个腐蚀样品之间不可以发生接触,而避免接触的有效方法是将各个样品都悬挂起来,这就需要一种悬挂样品用的支架,现有的一般是用一种呈“W”型的支架,而制作这种“W”型的支架没有成形的工具,一般由试验人员手工进行弯折,不仅浪费人力,而且效率低、质量差。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种结构简单的用于制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

一种制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具,所述的均匀腐蚀试验用样品支架呈“W”状,该折具包括通过一个转轴相铰接的第一杆体和第二杆体,所述的第一杆体和所述的第二杆体中的一者上设置有偶数个凹槽、另一者上设置有与所述的凹槽的数目相同的凸棱,所述的凸棱的宽度小于所述的凹槽的宽度,当所述的第一杆体靠近所述的第二杆体时,这些所述的凸棱一一对应收容在对应的凹槽中,所述的凸棱与所述的凹槽之间形成所述的样品支架的间隙。

优选地,所述的第一杆体上设置有第一凸块,这些所述的凸棱设置在所述的第一凸块上,所述的第二杆体上设置有第二凸块,这些所述的凹槽设置在所述的第二凸块上,进一步地,所述的第一凸块上设置有两个所述的凸棱,所述的第二凸块上对应设置有两个所述的凹槽,更进一步地,两个所述的凸棱的横截面的边缘线呈“W”型,两个所述的凹槽的横截面的边缘线呈“W”型。

进一步优选地,各个所述的凸棱的棱边均为倒圆角。

本实用新型的有益效果在于:结构简单、操作方便,可以根据需要增加凸棱和对应的凹槽的数目,通过加长操作杆体的长度及拉紧第一凸块、第二凸块与转轴之间的距离来达到省力的目的,该折具的造价低,适合小量制作样品支架。

附图说明

附图1为本实用新型的制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具中第一杆体与第二干起分离开时的立体示意图;

附图2为本实用新型的制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具中第一杆体与第二杆体向靠近而使凸棱收容在凹槽中的立体示意图;

附图3为附图2中A处的放大示意图。

附图中:1、第一杆体;2、第二杆体;3、转轴;4、凹槽;5、凸棱;6、第一凸块;7、第二凸块;8、间隙。

具体实施方式

下面结合附图所示的实施例对本实用新型作以下详细描述:

如附图1、附图2及附图3所示,本实用新型的制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具,包括通过一个转轴3相铰接的第一杆体1和第二杆体2,第一杆体1和第二杆体2中的一者上设置有偶数个凹槽4、另一者上设置有与凹槽4的数目相同的凸棱5,凸棱5的宽度小于凹槽4的宽度,当第一杆体1靠近第二杆体2时,这些凸棱5一一对应收容在对应的凹槽4中,凸棱5与凹槽4之间形成样品支架的间隙8。

具体地,第一杆体1上设置有第一凸块6,这些凸棱5设置在第一凸块6上,第二杆体2上设置有第二凸块7,这些凹槽4设置在第二凸块7上,附图中所示的实施例中,第一凸块6上设置有两个凸棱5,第二凸块7上对应设置有两个凹槽4,两个凸棱5的横截面的边缘线呈“W”型,两个凹槽4的横截面的边缘线呈“W”型。

为了在制作支架的过程中保证原材料不发生断裂,将各个凸棱5的棱边倒圆角。

使用时,将原材料垂直于凹槽4的方向放置在凹槽4上,然后按下第一杆体1,根据所需的“W”型支架的形状来决定使用的力度,而如果第一杆体1的长度较大,可以同时加多根原材料来进行制作,另外,如想再提高效率,可以设置多个凸棱5和凹槽4,只要保证均为偶数个,因为每两个凸棱5和对应的凹槽4形成一个“W”型,但对应的就要加长第一杆体1的长度,以省力,也要使得第一凸块6及第二凸块7距离转轴3尽可能近,也可以达到省力的目的。

本实用新型的制作均匀腐蚀试验用样品支架的折具:结构简单、操作方便,可以根据需要增加凸棱和对应的凹槽的数目,通过加长操作杆体的长度及拉紧第一凸块、第二凸块与转轴之间的距离来达到省力的目的,该折具的造价低,适合小量制作样品支架。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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