[实用新型]一种用于加工抛光轮的模具有效
| 申请号： | 201120204224.6 | 申请日： | 2011-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN202174513U | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 蔺小军;史耀耀;张军锋;段继豪;任军学;李小彪;杨阔;董婷 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人： | 陈星 |
| 地址： | 710072 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 加工 抛光轮 模具 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于加工抛光轮的模具，其特征在于：模具基体（1）为长方体，长方体底面进行平面磨，平面度≤0.01；在模具基体（1）内开有靠模（2）和导向槽（3），靠模（2）为四分之一凹球面，用于加工抛光轮，凹球面半径与待抛光圆弧部件的半径R相同，凹球面球心距离竖直径向定位基准面（4）的距离为R，其中竖直径向定位基准面（4）与模具基体底面的垂直度≤0.012，靠模（2）的加工精度为±0.01mm，表面粗糙度Ra为12.5～25；靠模（2）后段为导向槽（3），用于加工抛光轮时引导抛光轮，导向槽为二分之一凹圆柱，凹圆柱半径为R，凹圆柱轴线距竖直径向定位基准面（4）的距离为R，凹圆柱长度为5～15mm，导向槽（3）的加工精度为±0.01mm；导向槽末端有水平径向定位基准面（5）和轴向定位基准面（6），水平径向定位基准面（5）距模具基体上表面的距离为R+3mm～R+10mm，水平径向定位基准面（5）与模具基体底面的平行度≤0.012，轴向定位基准面（6）与模具基体底面的垂直度≤0.012。
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