[实用新型]电阻蒸发镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电阻蒸发镀膜机。

背景技术

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量)，并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状，通以电流，加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质，电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜，为沉积高纯单晶膜层。

现有的电阻蒸发镀膜机一般采用立式状态，这样的设备由于功率搭配不当和蒸发角度的不同，它会使镀出来的产品没有光折度，不清透，灰蒙蒙而没有彩光，因此无法生产加工立体的环氧尖底水钻产品。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供电阻蒸发镀膜机，可以有效地解决现有立式电阻蒸发镀膜机生产的产品没有光折度，不清透，灰蒙蒙而没有彩光，无法生产加工立体的环氧尖底水钻产品的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

电阻蒸发镀膜机，其特征在于：包括工件架底座，工件架底座的前后两端均设有工件架轮骨，工件架底座上设有蒸发电极杆支架，蒸发电极杆支架之间连接有蒸发电极杆，蒸发电极杆水平方向设置。

进一步，两个工件架轮骨之间设有至少一个工件架挂件支架。

优选的，工件架挂件支架沿着工件架轮骨的轴心方向左右对称设置。

本实用新型由于采用了上述技术方案，可以使镀出来的产品清透，折射率强，七彩度好，使产品完美无暇，彻底改变尖底水钻一定需要玻璃材质而采取国家逐渐禁止高污染的化学电镀。本实用新型结构简单，制造简便，成本低，实用性强。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步说明：

图1为本实用新型电阻蒸发镀膜机的结构示意图；

图2为图1中的K向结构示意图。

具体实施方式

如图1和图2所示，为本实用新型电阻蒸发镀膜机，包括工件架底座1，工件架底座1的前后两端均设有工件架轮骨2，工件架底座1上设有蒸发电极杆支架4，蒸发电极杆支架4之间连接有蒸发电极杆5，蒸发电极杆5水平方向设置，两个工件架轮骨2之间设有至少一个工件架挂件支架3，工件架挂件支架3沿着工件架轮骨2的轴心方向左右对称设置。

以上仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的技术特征并不局限于此，任何以本实用新型为基础，为实现基本相同的技术效果，所作出地简单变化、等同替换或者修饰等，皆涵盖于本实用新型的保护范围之中。