[实用新型]可微调矫正区域的足弓矫正垫有效
| 申请号： | 201120194217.2 | 申请日： | 2011-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN202184827U | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 陈升环 | 申请（专利权）人： | 陈升环 |
| 主分类号： | A61F5/01 | 分类号： | A61F5/01 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 马来西亚*** | 国省代码： | 马来西亚;MY |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微调 矫正 区域 足弓 | ||
1.一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，包括至少一足弓主撑板及至少一微调垫片，该主撑板为一弓形板，且该主撑板底部布设有多个垫片定位部；该微调垫片为扁薄片，且该微调垫片一侧设有能够与该垫片定位部相配合的相对定着部。
2.根据权利要求1所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，主撑板底部设有一中段弯弓区域，且该中段弯弓区域内的垫片定位部密度高于其他区域。
3.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的轮廓为多边形。
4.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的轮廓为弧周形。
5.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部为凹坑与凸柱型态的配合。
6.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部为凹坑与凸柱型态的配合。
7.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部为凹坑与凸柱型态的配合。
8.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏毡与相对易黏毡结合。
9.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏毡与相对易黏毡结合。
10.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏毡与相对易黏毡结合。
11.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏胶加以结合。
12.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏胶加以结合。
13.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，垫片定位部与相对定着部之间，以易黏胶加以结合。
14.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
15.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
16.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
17.根据权利要求5所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
18.根据权利要求8所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
19.根据权利要求11所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为楔状。
20.根据权利要求1或2所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
21.根据权利要求3所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
22.根据权利要求4所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
23.根据权利要求5所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
24.根据权利要求8所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
25.根据权利要求11所述的一种可微调矫正区域的足弓矫正垫，其特征在于，微调垫片的断面为中间厚周边薄的凸片造形。
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