[实用新型]一种多晶硅提纯用电子束熔炼高效装置

说明书

技术领域

本实用新型属于冶金法制备太阳能级多晶硅技术领域，尤其是涉及一种多晶硅提纯用电子束熔炼高效除杂装置。 

背景技术

化学法和冶金法是多晶硅生产工艺的两大类，化学法如改良西门子法、硅烷法、流化床法生产的多晶硅纯度较高，纯度可以达到9-11个9之间，掺入一定的硼磷量方可为太阳能光伏组件生产使用，化学法中的化合物尤其是中间产物具有高挥发性、腐蚀性和毒性，在有水和盐酸参加时还具有爆炸性。相比之下，冶金法的目标就是生产专门用于太阳能的多晶硅，凭借其日渐成熟的工艺、低投入、低成本、易形成产业化、环境污染小等优势，吸引了国内外多家光伏主流企业的目光。 

电子束熔炼技术是冶金法制备太阳能级多晶硅的方法之一，它是利用高能量密度的电子束作为熔炼热源，硅料熔炼时的过热温度高，维持液态的时间长，在高真空环境下，通过电子束的电磁搅拌作用、高速动能搅拌作用，高温蒸发去除饱和蒸汽压较高的磷、铝等杂质，而对多晶硅中存在的其它有害金属杂质无法有效去除，金属杂质的存在将降低多晶硅的少子寿命，进而影响了太阳能电池的光电转换效率和衰减率，而冶金法多晶硅去除金属杂质的有效方法是定向凝固。 

日本已有利用电子束达到去除多晶硅中磷的方法，但该方法的缺点是使用两把电子枪打入电子束，电子束只能去除液态硅表面的杂质，熔化与扫描脱磷同在一个坩埚内进行，新加入的硅料熔化时污染已扫描脱磷硅液，不能实现连续加料，有效能耗较大，并且其不具有定向凝固的功能，不能有效去除金属杂质。 

已知的国内专利号为CN101905886的实用新型《一种电子束梯度熔炼提纯多晶硅的方法》，是通过采用改变电子束束流大小，产生能量大小不同分布，去除挥发性杂质磷的同时实现定向凝固效果。由于电子束束流的改变势必影响电子束的效率，该方法生产太阳能级多晶硅的效率也会随之降低。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对目前现有的电子束熔炼技术所存在的效率低、定向除杂效果不理想的技术难点问题，提供一种用于提高电子束熔炼效率，消除新加入硅料熔化时对已扫描脱磷硅液的污染，实现连续加料生产的高效除杂装置。 

为了实现上述目的，本实用新型的技术解决方案是： 

该装置上部分为电子束熔炼室，下部分为定向凝固室，室壁为双层水冷结构。电子束熔炼室包括吸附板、电子枪、左右水平水冷铜坩埚，其上设置有溢流口，三把电子枪分别垂直安装在电子束熔炼室的上壁，左水平水冷铜坩埚与第一移动丝杠机构相连接，右水平水冷铜坩埚与第二移动丝杠机构相连接，第一、第二移动丝杠机构分别与熔炼室外壁的电机相连接，左右水平水冷铜坩埚的底部分别安装有第一 滑轮和第二滑轮。在熔炼室上壁的左右两侧各设置有第一原料入口和第二原料入口，送料机构安装在第一、第二原料入口的上端，水冷铸锭坩埚安装在定向凝固室中。水冷盘安装在水冷铸锭坩埚的底部，并与出锭顶升机构相连接。进水管和出水管与位于水冷铸锭坩埚底部的水冷盘相连通，电子束熔炼室的后方配置有高真空系统、送料仓、电控柜、操作台、高压电源和循环水冷系统。 

本实用新型装置是在高真空环境下使用，利用两把高能量密度电子束同时加热溶化左、右两个水平水冷铜坩埚内熔料区的块状硅料，水平水冷铜坩埚内用挡板将熔化区与扫描脱磷区分开，熔化的硅料从挡板底部流入扫描脱磷区，调节电子枪的电子束束能及时扫描轨迹，有效去除扫描脱磷区硅液表面10-15mm区域内的杂质，脱磷硅液通过水平水冷铜坩埚溢流口在重力的作用下流入铸锭坩埚中。第三把电子枪对流入圆锥形铸锭坩埚内的熔融硅液继续进行扫描，进一步对磷进行去除，并维持硅液表面呈溶化状态。同时在铸锭坩埚底部水冷盘单向冷却的作用下，使硅液由下向上的缓慢降温结晶，随着硅液的不断流入铸锭坩埚，硅液液面和固液界面的也不断上升，形成定向凝固过程，最终使金属杂质凝固在硅锭中心的最上部，熔炼凝固冷却完成后，硅锭通过水冷盘的顶升出炉，锯切硅锭顶部，即可得到磷和金属杂质含量较低的硅锭。 

本实用新型具有以下优点： 

1、生产效率高。本实用新型采用两只水平水冷铜坩埚用两把电子束枪同时熔炼的方式，在电子束熔炼方面，与现有已知技术的单只 水平水冷铜坩埚、一把电子束枪的电子束炉生产效率相比提高了两倍。