[实用新型]吹扫装置和具有它的等离子体增强化学气相沉积设备有效
| 申请号: | 201120173291.6 | 申请日: | 2011-05-26 |
| 公开(公告)号: | CN202107763U | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
| 发明(设计)人: | 刘红义 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 具有 等离子体 增强 化学 沉积 设备 | ||
1.一种吹扫装置,其特征在于,包括:
内管,所述内管的第一端敞开且所述内管的第二端封闭,所述内管的管壁上设有通孔;和
外管,所述外管套设在所述内管外面以在所述外管与所述内管之间限定出环形空间,所述环形空间通过所述通孔与所述内管的内腔连通,所述环形空间的第一端和第二端封闭,所述外管的管壁上设有将所述环形空间与外界连通的分配孔。
2.根据权利要求1所述的吹扫装置,其特征在于,所述通孔为多个,所述多个通孔沿所述内管的轴向间隔分布。
3.根据权利要求1所述的吹扫装置,其特征在于,所述通孔的开口方向与所述分配孔的开口方向之间的夹角α在90°<α<270°的范围内。
4.根据权利要求3所述的吹扫装置,其特征在于,所述夹角α为180°。
5.根据权利要求1所述的吹扫装置,其特征在于,所述内管与所述外管同轴。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的吹扫装置,其特征在于,所述分配孔为沿所述外管的轴向延伸的狭槽。
7.根据权利要求6所述的吹扫装置,其特征在于,所述狭槽为矩形。
8.根据权利要求1所述的吹扫装置,其特征在于,还包括第一密封件和第二密封件,所述第一密封件连接在所述内管和所述外管的第一端以密封所述环形空间的第一端,所述第二密封件连接在所述内管和所述外管的第二端以密封所述内管的第二端和所述环形空间的第二端。
9.根据权利要求8所述的吹扫装置,其特征在于,所述第一和第二密封件与所述内管和所述外管分别螺纹连接。
10.一种等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于,包括:
依次设置的装载台,预热腔、工艺腔、冷却腔和卸载台;
返回装置,所述返回装置设置在所述卸载台与所述装载台之间以将所述卸载台上的载板输送到所述装载台上;
吹扫装置,所述吹扫装置为根据权利要求1-9中任一项所述的吹扫装置,所述吹扫装置设在所述返回装置的支架上且位于所述返回装置上方用于吹扫所述返回装置上的所述载板;和
气源,所述气源与所述吹扫装置的所述内管的第一端相连。
11.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于,所述吹扫装置邻近所述装载台。
12.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于,所述吹扫装置可旋转地设置在所述返回装置的支架上。
13.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于,所述吹扫装置的所述外管上的分配孔的开口方向与所述返回装置的上表面之间的夹角β为锐角。
14.根据权利要求10所述的等离子体增强化学气相沉积设备,其特征在于,还包括设置在所述气源与所述内管之间的电磁阀。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





