[实用新型]一种新型混合澄清萃取设备有效
申请号: | 201120167983.X | 申请日: | 2011-05-25 |
公开(公告)号: | CN202096787U | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 张国茂 | 申请(专利权)人: | 张国茂 |
主分类号: | B01D11/04 | 分类号: | B01D11/04 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 李炳生 |
地址: | 410000 湖南省长沙市宁乡县*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 混合 澄清 萃取 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及分离设备,具体为一种新型混合澄清萃取设备。
背景技术
溶剂萃取用于工业已有近百年的历史。20世纪40年代,铀成为工业上第一个应用萃取工艺提取和纯化的金属。此后,溶剂萃取又在稀土金属,高熔点稀有金属锆和铪、铌和钽的分离中得到应用。60年代末以来,石油化工迅速发展,一些选择性强,萃取容量大,成本低廉的萃取剂相继出现,大型萃取设备先后投入工业生产,湿法冶金逐渐成为溶剂萃取应用的重要领域。
由于分离效率高,生产能力大,操作简单,易于实行连续化自动化等优异的分离性能和操作特点。目前,溶剂萃取已得到广泛应用和迅速发展。它在铀、钍等放射性元素、稀土元素、贵金属、稀有金属、稀散金属以及铜、镍、钴等重有色金属的分离、提取和精制过程中的应用已十分普遍。
溶剂萃取法提取铜是20世纪70年代湿法冶金的一项重要成果。铜的LIX系列高效萃取剂的研究成功,使溶剂萃取在处理低品位难选氧化矿的堆浸液和低品位硫化矿的细菌浸出液中显示出独特的优点和强大的生命力。世界上最早采用萃取工艺生产铜的工厂是美国亚利桑那州迈阿密兰彻斯特勘探公司兰鸟铜矿。该厂建于1968年,年产7500t阴极铜。此后,在南美洲、北美洲、非洲和大洋洲陆续建成一批有相当规模的铜溶剂萃取厂。最近,年产22.5万t阴极铜EIAbra公司的铜萃取提炼厂已在智利投产,使溶剂萃取法铜产量占世界铜总产量的比例上升到20%以上,我国已有25000t·a-1的生产能力,这个比例为2%~3%。在镍钴的提取和分离方面,溶剂萃取也得到了广泛应用。总之,溶剂萃取不再只是稀有金属及贵金属的重要提取方法,而且以发展成重金属的有效提炼方法。溶剂萃取还在迅速发展,新型特效廉价萃取剂的合成和大型高效萃取设备的研制仍然是溶剂萃取的科研和工程领域共同关心和注目的课题。
而现有的混合澄清器能量消耗大,在设备中停留有机相多,有机相利用率低,占地面积大,无动力萃取塔;喷雾塔、简易填料塔、筛板塔两相密度差不能太小,相比的范围变化小,厂房高,效率低,生产量小;有动力萃取塔;转盘塔、脉冲筛板塔、脉冲填料塔两相密度差不能太小,不适用易乳化的体系;不能采用高的流速比;离心萃取器设备成本高,维修费高,级数有限。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题在于提供一种新型混合澄清萃取设备,以解决上述背景技术中的缺点。
本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种新型混合澄清萃取设备,包括澄清室、静态管道混合器、混流泵、两相管、混合相管和泵电机,所述澄清室和静态管道混合器通过两相管连通,所述静态管道混合器与混流泵通过管道相连通,所述混流泵与泵电机之间通过泵轴连接,所述混流泵与混合相管通过管道相连通,所述混合相管上端的开口通向澄清室。
有益效果
本实用新型具有投资少、能耗低、效率高、操作简单、生产成本低和环境污染少等特点,它巧妙利用各单元组件的优点形成可实现产能放大、设备自动化、适用领域广等一种新型萃取设备。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。
参见图1, 一种新型混合澄清萃取设备的结构示意图,一种新型混合澄清萃取设备,包括澄清室1、静态管道混合器2、混流泵3、两相管4、混合相管5和泵电机6,所述澄清室1和静态管道混合器2通过两相管4连通,所述静态管道混合器2与混流泵3通过管道相连通,所述混流泵3与泵电机6之间通过泵轴连接,所述混流泵3与混合相管5通过管道相连通,所述混合相管5上端的开口通向澄清室1。
运行时,启动泵电机6,泵电机6带动混流泵3旋转,从而使澄清室1中的液体经过两相管4进入到静态管道混合器2中,然后通过混流泵3泵送到混合相管5中,并再次流入澄清室1中,如此循环,达到混合澄清萃取的目的。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征及本实用新型的优点,本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内,本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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