[实用新型]去溢料装置有效

专利信息
申请号: 201120158002.5 申请日: 2011-05-17
公开(公告)号: CN202103030U 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 王振荣;刘红兵 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/00
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 去溢料 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种去溢料装置。

背景技术

如图1所示,半导体行业中,很多设备必须要使用一种塑封电子元件603,其包括引脚602。应用于集成电路等半导体技术中,塑封电子元件603和引脚602的体积往往很小。为适应规模化生产的需要,使用边筋604将多个引脚602连接后,并在边筋604上开设通孔601。边筋604、塑封电子元件603和引脚602合称为引线框架6。

需要使用环氧树脂封装电子元件过程中,容易产生毛刺,毛刺也称为飞边或溢料,是指半导体器件经塑封后残留在引脚等处的环氧塑封料溢料,俗称为“毛刺”。它是在塑封过程中从模具中溢出的塑料类物质,通常的毛刺主要包括三部分:未完全固化的环氧树脂、脱模剂及固化的环氧模塑料。它们在半导体器件的引脚处形成,并以厚度不等的塑料膜的形式将引脚包裹起来。造成引脚可焊性不良、漏焊,严重时可能会使引脚失去了与外界传输信号的功能,是影响半导体器件可靠性的最大隐患。几乎所有半导体器件(包括IC和分立器件等)都程度不同地存在着毛刺的问题,尤其是国内某些企业采用技术水平较差的塑封模具,毛刺更加严重。所以,各种经塑封后的半导体器件都需要进行去毛刺处理。但现有的去毛刺或清洗设备,均是在引线框架相对固定的状态下清洗或去毛刺。例如将引线框架放置到指定位置,冲刷完后再移走,然后再将下一个引线框架放置到指定位置冲刷,依此类推。其虽然能够实现机械化操作,但在使用过程中,只能依次冲刷,在冲刷前后分别有一个移送动作。虽然在机械化操作的情况下,移送动作可以很快,但对于大规模的冲刷来说,移送动作耗费了操作时间,降低了工作效率。而且在冲刷过程中,高压水所产生的冲击力容易将引线框架折弯,严重时甚至会将引线框架折断,产品合格率低,生产成本高。现有去毛刺装置只能朝向引线框架一面冲刷,无法完全去除引线框架两侧的毛刺。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种可保护引线框架的去毛刺装置。

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现:

去溢料装置,其特征在于,包括导向装置,所述导向装置设置有允许引线框架穿过的导向槽;所述导向装置上设置有与导向槽联通的第一通孔;还包括有通过第一通孔将高压水冲向导向槽的第一喷水管。

优选地是,所述导向装置还设置有第二通孔,第二通孔与导向槽联通,第一通孔与第二通孔分别设置在导向槽两侧。

优选地是,所述第一通孔与第二通孔相对设置。

优选地是,第一通孔与第二通孔数目均为两个以上,沿导向槽长度方向排列;还包括通过第二通孔将高压水冲向导向槽的第二喷水管,第二喷水管与高压供水装置联通;第一喷水管与第二喷水管交叉设置。

优选地是,还包括携带引线框架沿导向槽移动的输送装置;所述第一喷水管设置在导向装置上方。

优选地是,所述的输送装置包括上输送带与下输送带,上输送带与下输送带相对设置,上输送带与下输送带相配合携带引线框架移动。

优选地是,所述上输送带由上皮带轮驱动;所述下输送带由下皮带轮驱动。

优选地是,所述第一喷水管与高压供水装置联通。

本实用新型中的去溢料装置,引线框架自导向槽内通过,导向装置可为引线框架提供保护,防止引线框架被高压水折弯。而且本实用新型可将喷水管设置在引线框架两侧,分别冲刷引线框架两侧,可确保彻底去除毛刺。

附图说明

图1为一种引线框架结构示意图。

图2为本实用新型结构示意图。

图3为本实用新型从另一个角度观察的结构示意图。

图4为本实用新型中的导向装置结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行详细的描述:

如图2、图3和图4所示,去溢料装置,包括导向装置1。导向装置1设置有允许引线框架穿过的导向槽11。导向装置1设置有与导向槽11联通的第一通孔12。第一通孔12数目为12个,沿导向槽11长度方向排列。导向槽11长度方向与引线框架移动方向相同。导向装置1还设置有第二通孔13。第二通孔13与导向槽11联通。第二通孔13数目为12个。第一通孔12与第二通孔13分别设置在导向槽11上下两侧。本实施例中,第一通孔12设置在导向槽11上方;第二通孔13设置在导向槽11下方。每个第一通孔12与一个第二通孔13相对设置。

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