[实用新型]一种组合式全电波暗室

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种组合式全电波暗室。

背景技术

在EMC(Electro Magnetic Compatibility，电磁兼容)测试实验中，往往要求待测设备或系统在其电磁环境中符合一定的测试条件，并且不会给环境中的任何其他设备造成无法容忍的电磁干扰。为了满足上述需要，技术人员设计出一种全电波暗室，该全电波暗室是铺设有吸波材料的封闭式屏蔽室，其中的吸波材料用来降低屏蔽室的内表面的电波反射。

现有技术中，全电波暗室包括一扇门，供测试人员进出和搬运测试设备，诸如测试平台和天线元件等预先放入该全电波暗室内。但是，全电波暗室中经常需要做不同的电磁测试项目，比如，RF周检测项目、Throughout项目、RS测试和UFA场地均匀性检验等。一般来说，上述每项测试都对全电波暗室内的测试平台与天线元件之间的间隔距离有着明确的要求，例如，RF周检测要求测试平台的正中心距该天线元件的前端3米，而Throughput要求测试平台的正中心距该天线元件的前端1米，以及RS测试要求测试平台的前边沿距该天线元件的前端3米，因而进行不同的测试项目时，需要移动天线架和调整天线的高度，以符合各自的测试距离要求。

图1A示出现有技术中的全电波暗室的外部轮廓示意图，以及图1B示出图1A中的全电波暗室的内部测试示意图。参照图1A，该全电波暗室包括一进出门104、两个转接板100和102。如前所述，进口门104用于测试人员进出和搬运测试设备，诸如测试平台和天线元件等预先放入该全电波暗室内，此外，当采用如下方式，即通过挪动暗室内部的地面所铺设的吸波材料来配合移动天线元件时，在每次测试前均需要重新对全电波暗室内的场地均匀性进行校验，这也需要测试人员进入暗室内进行人工处理。另外，转接板100和102分别位于全电波暗室的屏蔽墙，该屏蔽墙由吸波材料和/或屏蔽材料构成。

从图1A可以看出，转接板100和102各自设置于屏蔽墙的不同位置处，这是由于，移动天线和调整天线架以便使暗室内的测试平台与天线元件间保持一预设的间隔距离(诸如1米或3米)时，来自天线架的信号线到转接板100的长度不同于该信号线到转接板102的长度，为了减少信号在电缆上的损耗并节约连接线成本，一般将天线架的信号线电性连接至相对较近的转接板100或102。然而，如上所述，由于全电波暗室的地面铺设有吸波材料，为了合理地调整天线和天线架的位置，首先必须挪动对应位置的吸波材料，为天线和天线架的挪动腾出一定的空间，这势必是造成整个暗室内的场地均匀性发生变化，影响电磁测试的测试效率。

进一步结合图1B，不同的测试项目对应于测试转桌106与天线元件108之间的预设距离，并且在全电波暗室的地面铺设有吸波材料110，用于吸收该全电波暗室内的电波反射。例如，RF周检测要求测试平台的正中心距该天线元件的前端为3米，而Throughput要求测试平台的正中心距该天线元件的前端为1米，以及RS测试要求测试平台的前边沿距该天线元件的前端为3米，并且UFA场地均匀性校验，当用到16点场强法时，要求测试转桌前边沿距离天线元件前端的长度为3米。上述测试项目均需要调整天线元件的架设位置，因而会频繁地对全电波暗室内进行场地均匀性校验，降低测试效率。

有鉴于此，如何设计一种组合式全电波暗室，无需通过挪动暗室内的地面上所铺设的吸波材料来调整测试平台与天线元件的相对位置，并且在同一暗室中完成不同的测试项目，是业内相关技术人员面临的一项课题。

实用新型内容

针对现有技术中的上述缺陷，本实用新型提供了一种组合式全电波暗室。

依据本实用新型的一个方面，提供了一种组合式全电波暗室，所述组合式全电波暗室的地面上铺设有第一吸波材料，且于所述铺设有第一吸波材料的地面上配置有一测试转桌，所述测试转桌上放置有待测元件，所述组合式全电波暗室的一第一屏蔽墙上开设有多个框口，该组合式全电波暗室包括多对第一导轨和多个推拉模组。其中，多对第一导轨与所述多个框口逐一对应，配置于所述铺设有第一吸波材料的地面上，沿所述第一屏蔽墙朝着与其垂直的方向延伸。多个推拉模组与所述多个框口逐一对应，每一推拉模组通过相对应的所述第一导轨推进或拉出于所述组合式全电波暗室，其中每一所述推拉模组上架设有一测试天线，每一测试天线与所述测试转桌保持一预设距离，且各预设距离不同。