[实用新型]表膜收纳容器有效
申请号: | 201120147763.0 | 申请日: | 2011-05-10 |
公开(公告)号: | CN202110373U | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 竹下辉树;广濑隆德 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料株式会社 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;B65D85/00;B65D81/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收纳 容器 | ||
技术领域
本实用新型涉及用于收纳表膜的表膜收纳容器,尤其是涉及铺展后的表膜用膜的面积为1000cm2以上的大型表膜用的表膜收纳容器,该表膜用于制造构成LSI、液晶显示器(LCD)的薄膜晶体管(TFT)、滤色器(CF)等时的光刻工序中,被用来防止异物附着在光掩模、光罩(reticle)上。
背景技术
虽然本实用新型是关于表膜的收纳容器的技术,但首先对于表膜进行说明。
以往,在制造半导体装置、液晶显示器等的微细电路图案时的光刻工序中,通常采用被称作表膜的防尘部件来防止异物向光掩模、光罩的附着。
表膜是以如下方式构成的:例如将表膜用膜张设、粘接在表膜框体(以下也称为“表膜框架”。)的上缘面上,然后在该表膜框体的下缘面涂敷粘合材料而形成掩模用粘合材料层,且以规定的粘接力使保护膜粘合在该掩模用粘合材料层上。其中,上述表膜用膜是厚度为10μm以下的硝酸纤维素、纤维素衍生物或者含氟聚合物等透明的高分子膜,上述表膜框体具有与光掩模或者光罩的形状相配合的形状,该表膜框体的厚度和宽度为数毫米左右。
该掩模用粘合材料层是用于将表膜粘着在光掩模或者光罩上的材料层,另外,保护膜是为了在掩模用粘合材料层发挥上述作用之前维持粘合材料的粘接力而保护掩模用粘合材料层的粘接面的保护膜。
通常,这样的表膜自制造表膜的厂商(以下也称为“制造者”)供应给制造光掩模或者光罩(以下也称为“掩模等”。)的厂商(以下也称为“使用者”。)。在使用者那里,在将表膜粘贴到掩模等上之后,将被表膜所保护的掩模等供应给半导体厂商、液晶面板厂商等进行光刻的厂商。
在将该表膜自制造者搬送给使用者的过程中,一般情况下,为了防止异物附着在表膜上,或者防止表膜受损,而将该表膜收纳到由盖和用于载置该表膜的托盘构成的表膜收纳容器内,然后将该表膜收纳容器收纳到防尘袋等中来进行搬运。
不过,对于表膜收纳容器来说,需要具有用于使尘埃不会附着到表膜上的密封性。另外,对于表膜收纳容器来说,为了防止盖与表膜用膜相接触而将表膜用膜弄脏或损坏,要求表膜收纳容器具有能够可靠地保持与表膜用膜的非接触状态的保持性。
表膜收纳容器通常是通过将ABS、丙烯等树脂注塑成型或者真空成形而制造的。利用上述成形方法是因为其具有如下优点:所成形的表膜收纳容器的表面平滑,附着异物、尘埃的可能性小;由于一体成形,所以没有接缝,因而灰尘、异物进入的可能性小;还能够容易地制造复杂形状的表膜收纳容器;批量生产性优异、能够实现低成本化。
对于主要用于液晶用表膜的、一边超过了500mm那样的大型的表膜收纳容器,一般使用将ABS、丙烯树脂等合成树脂薄片真空成形而成的容器。这是因为,在自1处或者多处浇口将树脂高速注入到金属模内的注塑成型中,由于树脂的流动距离过长,所以在制法上有困难。相对于此,在真空成形中,仅通过将加热后的树脂薄片盖在金属模上并进行真空抽吸就能够形成表膜收纳容器,因此,能够容易地成形出大型的表膜收纳容器。
但是,在真空成形的情况下,存在如下问题:无法成形出厚壁的容器,而且,虽然能够利用加强筋实现某种程度的加固,但基本上只是弯折相同板厚的薄片,所以难以制作出高刚性的容器。因此,针对表膜收纳容器,需要利用某些方法来抑制盖、表膜载置台的变形。
因此,本申请人提出如下技术:通过在托盘或者盖的至少一方上安装加固板而抑制表膜收纳容器的变形、防止由于局部性地向掩模用粘合材料层的一部分施加重量而产生使内外连通的缝隙(air pass:使内外连通的缝隙)或者由于卷曲、挠曲而使托盘、盖与表膜相接触(参照专利文献1)。
另外,本申请人还提出如下技术:通过在托盘或者盖的至少一方上设置加强筋而抑制表膜收纳容器在搬运过程中因高温而导致盖、托盘卷曲等所引起的变形,防止异物进入(参照专利文献2)。
另外,作为不采用加固件的方法,提出了如下一种表膜收纳容器:通过在托盘上设置横切托盘外形对角线且不与其他加强筋相交叉的多条加强筋而尤其提高了扭曲方向的刚性(参照专利文献3)。
另外,提出了如下一种表膜收纳容器:通过在托盘的用于载置表膜框架的载置台的外侧或者内侧的任意一方设置台阶部,且将表膜框架载置于比台阶部低的位置上,而使表膜在输送过程中不易活动,降低了表膜框架底面的粘合材料卷缩的危险性(参照专利文献4)。
专利文献1:日本特开2005-49765号公报
专利文献2:日本特开2000-173887号公报
专利文献3:日本特开2008-139417号公报
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备