[实用新型]一种金属有机化学气相沉积反应器

权利要求书

1.一种MOCVD反应器，包括炉盖、保护板、沉积区和衬托，炉盖下方是保护板，保护板下方是衬托，炉盖和保护板之间布置通有净化气体的管道，保护板和衬托之间布置从炉盖上方延伸的、通过生长气体的管道，其特征在于，在保护板的竖直方向设置一个或者多个吹扫气孔，保护板下面设置石墨片的衬底，保护板和石墨之间布置通有净化气的管道。

2.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，该一个或者多个吹扫气孔不规则设置在保护板的生长气体进气口的周围；或者围绕该进气口环状等距排列。

3.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，保护板上的环形排列的吹扫气孔设置在气流上游靠近晶片载盘处，通过吹扫气流吹扫作用形成具有较少沉积的放射状的区域。

4.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，保护板采用多层的保护板片，多层保护板片叠加，层与层之间留置空隙，供吹扫气体吹扫冷却。

5.根据权利要求4所述的反应器，其特征在于，每层保护板片的厚度或者面积不同；或者保护板的层与层之间设置标准间距，供吹扫气体吹扫冷却。

6.根据权利要求5所述的反应器，其特征在于，每一层的保护板的厚度为0.1-3mm，多层保护板叠加安置在反应炉中。

7.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，保护板下设置石墨片的衬底，保护板和石墨之间布置通有净化气的管道。

8.根据权利要求7所述的反应器，其特征在于，保护板下设置小尺寸的镀SiC石墨片，石墨片与保护板留有空隙，作为吹扫气孔供吹扫气流通过。

9.根据权利要求8所述的反应器，其特征在于，在石墨衬底和保护板之间加入遮挡板。