[实用新型]膜产品研发用辅助镀膜装置

权利要求书

1.一种膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：包括有真空镀膜室以及安装于该真空镀膜室中用于置放基板的工件架、用于朝向该工件架喷镀物质的溅射靶和用于控制该溅射靶朝向工件架喷镀物质范围的掩模板；该溅射靶设置于工件架外；该掩模板上设置有模孔，掩模板可活动地设置于工件架和溅射靶之间。

2.根据权利要求1所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：所述溅射靶至少为两个；该掩模板为两个，它们分别是第一掩模板和第二掩模板，该第一掩模板可横向活动地设置，第一掩模板上设置有第一模孔；该第二掩模板可纵向移动地设置，第二掩模板上设置有第二模孔。

3.根据权利要求2所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：所述第一掩模板和第二掩模板均平行于工件架移动，该第一掩模板和第二掩模板分别由第一驱动机构和第二驱动机构带动移动。

4.根据权利要求1或2所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：针对每一溅射靶，于该掩模板和溅射靶之间设置有用于根据情况阻挡溅射靶向工件架喷镀物质的活动挡板。

5.根据权利要求4所述的膜产品研发用辅助镀膜装置，其特征在于：所述活动挡板通过一驱动缸体可活动地伸出或缩回，该驱动缸体固定于真空镀膜室上，驱动缸体可活动地伸出有连接杆，该活动挡板安装于该连接杆的尾端。