[实用新型]一种取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘有效
| 申请号: | 201120114510.3 | 申请日: | 2011-04-19 |
| 公开(公告)号: | CN202021139U | 公开(公告)日: | 2011-11-02 |
| 发明(设计)人: | 胡惊雷;彭守军;徐慧英;付康;郭小龙;李杰;姚文启;李冲 | 申请(专利权)人: | 武汉钢铁(集团)公司 |
| 主分类号: | B05C11/10 | 分类号: | B05C11/10;B05C11/11 |
| 代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 段姣姣 |
| 地址: | 430080 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 取向 硅钢 氧化镁 涂层 托层盘 | ||
技术领域
本实用新型涉及取向硅钢氧化镁涂层机,具体属于取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘。
背景技术
取向硅钢脱碳退火完成后在钢带上下表面要进行氧化镁涂液均匀涂敷。但在氧化镁涂液涂敷过程中,由于氧化镁经水化后形成氢氧化镁,而氢氧化镁易与空气中的二氧化碳结合后生产易沉淀的碳酸镁,碳酸镁易产生团聚现象,随着时间推移,碳酸镁形成大片的硬块粘接在托层盘内,磨损涂层辊刻槽;涂层辊因磨损严重必须更换涂层辊,作业线的作业率大大降低;由于固化后氧化镁涂液粘接在托层盘内无法使用,造成氧化镁浪费;氧化镁涂液经过循环系统使用过程中,涂液经过集管喷射到钢带上表面因压力较大及压力波动、氧化镁颗粒不均匀而产生飞溅造成涂层不均匀性,严重影响产品质量。
从所检索资料分析,目前国内外尚无发现存在有效解决氧化镁涂层结垢及飞溅的装置。现有的氧化镁涂层机为氧化镁涂层浆液储存在涂层循环罐内,氧化镁浆液被涂层循环泵经过输液管道喷射到钢带上表面、涂液由中间向二边扩散,顺着钢带两边边部流到涂层机的托层盘、托层盘的涂液装满后,涂层液溢流到回收槽再经过管道回到涂层循环罐内。涂层机在使用过程中,涂层集管流量大会产生飞溅,涂层集管流量小会造成涂层机托层盘涂液少而造成漏涂现象,影响产品质量。
实用新型内容
本实用新型的目的克服目前存在的不足,提供一种氧化镁涂液流动性好,氧化镁水化后不会产生团聚现象,涂层均匀并提高涂层辊使用周期的取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘。
实现上述目的的技术措施:
一种取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘,包括托层盘本体,托层盘本体的钢带入口及钢带 出口,氧化镁总管,其特征在于:在钢带入口加工至少一个入口溢流孔,在钢带出口加工至少二个出口溢流孔;在钢带出口处连接有喷射集管,在喷射集管上设有至少五个喷孔,在每个喷孔上连接有喷管的一端,喷管的另一端为排出口;在氧化镁总管上连接有支管,支管与喷射集管连接。
其特征在于:在支管上连接有调节阀。
其特征在于:喷射集管上设有的喷孔为均匀分布。
本实用新型多与现有技术相比,消除了涂层机涂层托层因氧化镁流动性差而结垢现象,涂层机的喷射集管压力平稳,钢板表面涂层均匀,提高了产品质量,设备简单,维护方便,适用于所有氧化镁涂层机。
附图说明
附图为一种取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘的结构示意图
具体实施方式
下面结合附图做详尽描述:
一种取向硅钢氧化镁涂层机的托层盘,包括托层盘本体1,托层盘本体1上的钢带入口2,钢带出口3,氧化镁总管4。其在托层盘本体1上的钢带入口2处加工一个/两个/五个入口溢流孔5,在托层盘本体1上的钢带出口3处加工二个/四个/十个出口溢流孔6;在钢带出口3处采用焊接或螺栓连接喷射集管7,在喷射集管7上加工均匀分布的五个/十个/十五个喷孔8,在每个喷孔8上采用螺纹或插入式连接喷管9的一端,喷管9的另一端为排出口10;在氧化镁总管4上连接有支管11,支管11与喷射集管7采用螺纹或卡紧器连接;在支管11上连接有调节阀12。
需要说明的是本实施例的列举的入口溢流孔5、出口溢流孔6、喷孔8仅为列举,其不仅 限于此。
动作原理
氧化镁涂液由氧化镁总管4流经支管11进入喷射集管7,经喷射集管7的分配经喷管9进入托层盘本体1内;在此股氧化镁涂液的带动下,给原流入托层盘本体1内的氧化镁涂液增加了流动性,防止了其沉集及结块,使喷涂在钢带上的氧化镁涂液均匀。流动至入口溢流孔5或出口溢流孔6的氧化镁涂液则流出托层盘本体1,经过回收装置再输送到喷射集管7内做循环流动。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉钢铁(集团)公司,未经武汉钢铁(集团)公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120114510.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





