[实用新型]隧道式沸腾流化床

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种隧道窑结构，具体涉及一种用于氧化或还原粉末态物质的隧道式沸腾流化床。 

背景技术

目前，在氧化或还原粉末态物质时，一般采用的设备有隧道窑结构与转窑结构。转窑结构是将粉末态物质放入转窑内，在转窑旋转过程中，利用通入到转窑内的氧化气体或还原气体对粉末态物质进行氧化或者还原；隧道窑结构是将粉末态物质放于盛料装置中，盛料装置在隧道窑中移动，同时，隧道窑中通入氧化气体或还原气体对粉末态物质进行氧化或者还原。该两种结构形式在氧化粉末或还原粉末过程中，氧化气氛与还原气氛均不能与粉料进行充分接触，导致不能达到很好的氧化、还原效果。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可提高粉末态物质氧化还原效果的隧道式沸腾流化床。 

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：隧道式沸腾流化床，包括窑体以及与窑体内腔相通的排气口与出料口，在窑体上开设有进料口与进气结构，所述进气结构设置在窑体底部，进气结构处连接有压力送风装置。 

作为优选的技术方案，所述进气结构为具有多个气流通道的气体分布格栅，所述压力送风装置为设置在气体分布格栅下方的气室，气室上开设有进气口，所述气室通过气体分布格栅与窑体的内腔相通。 

进一步的是，进气口设置在气室的一端，气室的另一端设置有收集灰斗。 

进一步的是，所述进料口位于窑体的一端，排气口与出料口位于窑体的另一端。 

进一步的是，设置排气口与出料口一端的窑体上设置有与窑体内腔相通的集料器，排气口设置在集料器顶部，出料口设置在集料器底部。 

进一步的是，所述进料口设置在窑体顶部。 

本实用新型的有益效果是：工作时，通过压力送风装置往窑体内吹入高压气体，同时，从进料口往窑体内进入粉料，粉料与氧化气体或还原气体发生反应后，气体从排气口排出，粉料从出料口排出。在粉料与高压气体接触过程中，高压气体可将粉料不停地在窑体内翻动，从而可使粉料与气体充分接触，提高了粉料的氧化还原效果，尤其适合在粉料的氧化还原作 业中推广应用。 

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。 

图中标记为：窑体1、进料口2、排气口3、出料口4、进气结构5、气室6、进气口7、收集灰斗8、集料器9，图中实心箭头为粉料的流动方向，空心箭头的高压气体的流动方向。 

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。 

如图1所示，本实用新型的隧道式沸腾流化床，包括窑体1以及与窑体1内腔相通的排气口3与出料口4，在窑体1上开设有进料口2与进气结构5，所述进气结构5设置在窑体1底部，进气结构5处连接有压力送风装置。工作时，通过压力送风装置往窑体1内吹入高压气体(氧化气体或还原气体)，同时，从进料口2往窑体1内进入粉料，粉料与氧化气体或还原气体发生反应后，气体从排气口3排出，粉料从出料口4排出。在粉料与高压气体接触过程中，高压气体可将粉料不停地在窑体1内翻动，从而可使粉料与气体充分接触，提高了粉料的氧化还原效果。 

在上述实施方式中，进气结构5可以是设置在窑体1底部的通孔，在该通孔处连接进气管道实现往窑体1内通风。作为优选的实施方式，所述进气结构5为具有多个气流通道的气体分布格栅，所述压力送风装置为设置在气体分布格栅下方的气室6，气室6上开设有进气口7，所述气室6通过气体分布格栅与窑体1的内腔相通。工作时，高压气体从进气口7通入到气室6内，经气体分布格栅均匀分布到窑体1内，在气体与粉料的接触过程中，可保证气体与粉料的充分混合，从而保证气体的氧化还原效果。 

为便于排除气体所带入的灰尘，进气口7设置在气室6的一端，气室6的另一端设置有收集灰斗8。气体从进气口7进入后，气体中的灰尘在收集灰斗8中沉淀下来，需要清理时，打开收集灰斗8，清除出灰尘即可。 

在以上的实施方式中，进料口2位置可以任意设置，只要能将粉料通入到窑体1中即可，作为优选的实施方式，所述进料口2位于窑体1的一端，排气口3与出料口4位于窑体1的另一端。从而可充分利用窑体1的整体长度，使粉料在窑体1中能充分与气体发生氧化还原反应。 

为便于收集粉料，设置排气口3与出料口4一端的窑体1上设置有与窑体1内腔相通的集料器9，排气口3设置在集料器9顶部，出料口4设置在集料器9底部。粉料在窑体1中经氧化还原反应后，在风压的作用下，可在集料器9中沉淀下来，而反应后的气体则通过集料器9顶部的排气口3排出，可保证粉料收集的可靠性。 

在以上的实施方式中，进料口2可设置在窑体1的侧壁，作为优选的实施方式，所述进料口2设置在窑体1顶部。这样，当粉料从进料口2进入后，于重力作用下在窑体1中下沉，而高压气体从窑体1的底部通入后往窑体1的上部空间运动，从而可使高压气体对粉料进行充分的翻动，提高对粉料的氧化还原效果。