[实用新型]用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备

权利要求书

1.一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，该等离子处理装置包括设置在反应腔（100）内的基座（22），基座（22）上方为基片加工区域，基座（22）内包括连接射频电源的下电极，所述的电场均匀调谐装备（10）安装在基座（22）上方并围绕基片加工区域，其特征在于，

该电场均匀调谐装备（10）包含若干环状结构，从外到内依次为外导电环状层（4）、绝缘环状层（2）、（3）、内导电环状层（1）；其中，外导电环状层（4）和内导电层环状层（1）相对的圆环面上分别设置若干突出部和凹进部，且外导电环状层（4）和内导电层环状层（1）可以相对转动。

2.根据权利要求1所述的一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，其特征在于，所述的外导电环状层（4）和内导电层环状层（1）相对旋转时，内导电环状层（1）突出部和外导电环状层（4）突出部之间的距离发生变化。

3.根据权利要求1所述的一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，其特征在于，内导电环状层（1）和外导电环状层（4）上的突出部和凹进部在整个圆周上均匀交替分布。

4.根据权利要求1所述的一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，其特征在于，所述内导电环状层（1）和外导电环状层（4）的材料选自铝，硅，碳化硅之一。

5.根据权利要求1所述的一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，其特征在于，所述绝缘环状层由石英或陶瓷组成。

6.根据权利要求1所述的一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备，其特征在于，所述绝缘环状层可以相对内导电环状层（1）或者外导电环状层（4）旋转。