[实用新型]用于处理铝和铝合金熔体的双金属层结构容器有效

专利信息
申请号: 201120071007.4 申请日: 2011-03-17
公开(公告)号: CN202011185U 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 刘国钧;徐骏 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: B32B1/02 分类号: B32B1/02;B32B15/01;F27B14/08
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 赵郁军
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 处理 铝合金 双金属 结构 容器
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种铝和铝合金熔体处理装置,尤指一种用于处理铝和铝合金熔体的双金属层结构容器。

背景技术

在铝和铝合金的熔炼及加工行业中,各种铁制器具极易被熔化的铝或铝合金腐蚀,从而缩短了使用寿命,并且,被腐蚀掉的铁元素极易熔入铝或铝合金中而形成杂质,严重恶化铝和铝合金的质量。因此,与铝和铝合金熔体直接长期接触的容器(例如容具、坩埚)通常不能采用铁合金构件。

目前,公知的用于铝和铝合金熔体处理过程的容器大都采用耐高温石棉、石墨或陶瓷等非金属材料制造。然而,这些非金属材料的使用寿命同样很短,且强度极差,无法做受力承重的连接、支撑等结构件,无法经受长时间强力搅拌。

鉴于上述情况,目前,一种金属钼材料已被用于制造小型钼坩埚,使用钼材料制造出的该钼坩埚不会被铝或铝合金熔体腐蚀,传热性好,可加热保温熔体至800℃,强度高,能经受各种搅拌冲刷,能做受力承重的连接、支撑等结构件。但是,该钼坩埚只是使用单一的钼材料制成的,因此,其存在如下两个缺点:第一,钼材料昂贵,钼坩埚制作成本太高;第二,当该钼坩埚的外壁处于加热(高至800℃)且开放气氛中时,外壁上的钼材料易发生氧化剥落,钼坩埚的使用寿命极大地被缩短。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于处理铝和铝合金熔体的双金属层结构容器,该双金属层结构容器可在铝和铝合金熔体的各种处理过程中使用。

为了实现上述目的,本实用新型采用了以下技术方案:

一种用于处理铝和铝合金熔体的双金属层结构容器,其特征在于:它包括由钼材料制成的内腔层,该内腔层的外壁上设有由高温合金材料制成的外壳层。

所述内腔层为中空的锅体结构或两端开口的中空套筒结构。

所述钼材料为钼或钼合金。所述高温合金材料为铁合金、镍合金、钛合金或铜合金中的任一种。

本实用新型具有如下优点:

1、本实用新型双金属层结构容器可在铝和铝合金熔体的各种处理过程中使用,该铝和铝合金熔体的各种处理过程包括熔炼、熔体变质、熔体净化处理、熔体储存、熔体搅拌等对熔化的铝和铝合金进行的各种处理。

2、本实用新型双金属层结构容器的内腔层由钼材料制成,该钼制内腔层不会与所处理的铝或铝合金熔体之间发生反应,因而,本实用新型双金属层结构容器不会被铝或铝合金熔体腐蚀,使用寿命长,且对铝和铝合金熔体无污染,可确保铝和铝合金的质量。

3、本实用新型双金属层结构容器的钼制内腔层强度高,能经受铝和铝合金熔体强力长期地搅拌冲刷。

4、本实用新型双金属层结构容器的外壳层由高温合金材料制成,可以有效防护钼制内腔层受到氧化,延长了使用寿命。

5、本实用新型双金属层结构容器的外壳层十分强韧,可做受力承重的连接、支撑等结构件,从而本实用新型双金属层结构容器可与其他设备进行各种连接、固定等安装操作。

6、本实用新型双金属层结构容器的传热性好,可加热或保温铝和铝合金熔体至800℃。

7、与公知的全钼材料制造的小型钼坩埚相比,本实用新型双金属层结构容器大大减少了钼材料的使用,降低了成本。

附图说明

图1是本实用新型第一实施例的结构示意图(局部剖视)。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进行描述。

本实用新型双金属层结构容器包括由不与铝和铝合金反应的钼材料制成的内腔层1,该内腔层1的外壁上设有由高温合金材料制成的外壳层2。

在实际设计时,该内腔层1可为一端封口而另一端开口的中空的锅体结构,该锅体结构便于熔体储存,如图1所示,或者,该内腔层1也可为两端开口的中空套筒结构,该套筒结构便于熔体流过。在实际制作中,本实用新型双金属层结构容器可以容具或坩埚的形式制作。

在实际制作中,钼材料可选为钼或钼合金,高温合金材料可选为铁合金、镍合金、钛合金或铜合金中的任一种。例如,铁合金可为普通碳钢或高温合金钢。

本实用新型为一种两个金属层紧密复合的结构(如图1所示),内腔层1与外壳层2可通过热镶嵌或高温合金浇注等复合方法结合在一起。

在实际使用中,外壳层2还可连接有法兰或固定架等安装固定装置,以便组成其它设备的一部分。例如,图1示出了外壳层2上安装法兰3的本实用新型。

使用时,在内腔层1内容装铝或铝合金熔体,使内腔层1的内部空腔处于真空或密闭或惰性气氛下,而外壳层2处于辐射或感应等加热、开放气氛(无须任何特殊保护)下,以对铝或铝合金熔体进行各种处理。

本实用新型具有如下优点:

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