[实用新型]枢轴改良结构有效

专利信息
申请号: 201120068906.9 申请日: 2011-03-16
公开(公告)号: CN201973081U 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 林建宇;买健诚 申请(专利权)人: 富世达股份有限公司
主分类号: F16C11/04 分类号: F16C11/04
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 张骥
地址: 中国台湾新北市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 枢轴 改良 结构
【权利要求书】:

1.一种枢轴改良结构,其特征在于:枢轴之表面系包括有一轴线和一计划区域;所述的计划区域上设置有复数个形成非平行于轴线方向排列型态的脊部和谷部。

2.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述脊部和谷部系沿着接近垂直于枢轴轴线的横切面方向,连续的配置在该枢轴表面。

3.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述复数个脊部系以螺纹结构的型态,环绕布置在枢轴表面。

4.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系定义有一第一端和一第二端;该第一端系邻接该计划区域;并且,使该第一端的断面宽度系略小于该计画区域的断面宽度。

5.根据权利要求4所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系设置有一压花区;并且,该第二端系邻接压花区。

6.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述复数个脊部系形成相互平行的排列型态。

7.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系设有至少一个凹穴。

8.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴系形成一具有平面的凹室型态。

9.根据权利要求8所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴的平面的高度系低于该枢轴的外表面。

10.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系设置有一压花区;并且,相对于该计划区域的位置,在邻近压花区的另一端,该枢轴系设有至少一个凹穴。

11.根据权利要求10所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴系形成一具有平面的凹室型态。

12.根据权利要求11所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴的平面的高度系低于该枢轴的外表面。

13.根据权利要求7所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴的位置系在枢轴上形成对称位置的型态。

14.根据权利要求10所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述凹穴的位置系在枢轴上形成对称位置的型态。

15.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述脊部布置在计画区域上的型态系形成非连续的结构型态。

16.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系一柱状体的型态。

17.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述计划区域系和一桥接器组合;该桥接器系一板状体的型态,具有一枢接部,组合在该计画区域上。

18.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系设置有一压花区,邻近该计画区域。

19.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述枢轴系设置有一压花区;所述的压花区系和一桥接器组合。

20.根据权利要求17所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述桥接器系组装固定在一电子器物的显示萤幕上。

21.根据权利要求19所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述桥接器系组装固定在一电子器物上。

22.根据权利要求15所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述脊部系形成一段一段突出于枢轴表面的非相互连接的结构型态。

23.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述谷部系蓄积有润滑油剂。

24.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述脊部系形成连续排列的型态。

25.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述脊部和谷部系沿着垂直于枢轴轴线的横切面方向,连续的配置在该枢轴表面。

26.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述复数个脊部系形成独立环状凸纹及相互平行的排列型态。

27.根据权利要求1所述的枢轴改良结构,其特征在于:所述复数个谷部系形成独立环状凹纹及相互平行的排列型态。

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