[实用新型]一种反射膜层有效
| 申请号： | 201120050160.9 | 申请日： | 2011-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN202003044U | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 赵志宏;刘丹丹;季一勤;庄克文 | 申请（专利权）人： | 中国航天科工集团第三研究院第八三五八研究所 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;B32B15/00 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 高尚梅 |
| 地址： | 300192*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 反射 | ||
【权利要求书】：
1.一种反射膜层，包括过渡膜层(2)，金属反射膜层(3)和保护膜层(4)，其特征在于：通过过渡膜层(2)将金属反射膜层(3)沉积于基底(1)表面，再在金属反射膜层(3)上沉积保护膜层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：过渡膜层(2)的材料为铬。
3.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：以真空蒸发的方式沉积过渡膜层(2)和金属反射膜层(3)。
4.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述保护膜层(4)的材料为克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且为在可见及红外波段均透光的材料。
5.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：以离子束溅射或离子束反应溅射的方式沉积保护膜层(4)。
6.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述过渡膜层(2)的厚度为30nm～500nm。
7.根据权利要求1所述的一种反射膜层，其特征在于：所述金属反射膜层(3)的厚度为20nm～2000nm。
8.根据权利要求1所述的一种金属反射膜层，其特征在于：所述保护膜层(4)的厚度为20nm～1000nm。
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