[实用新型]剩余基盘清除装置无效

专利信息
申请号: 201120040851.0 申请日: 2011-02-18
公开(公告)号: CN202016742U 公开(公告)日: 2011-10-26
发明(设计)人: 郝俊胜;王玉娟;李永峰 申请(专利权)人: 三星高新电机(天津)有限公司
主分类号: B65G47/74 分类号: B65G47/74
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 代理人: 刘英兰
地址: 300385 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 剩余 清除 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种基盘运行装置,特别涉及一种剩余基盘清除装置。

背景技术

目前,在电器部件生产过程中通常应用的基盘运行装置往往容易造成不同类型基盘的混淆,难以提高生产效率和有效保证生产质量。

因此,提供一种结构简单、设计合理、安全可靠、实用效果显著的剩余基盘清除装置,成为该领域技术人员急待着手解决的问题之一。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述不足之处,提供一种结构简单、设计合理、安全可靠、实用效果显著的剩余基盘清除装置。

为实现上述目的本实用新型所采用的技术方案是:一种剩余基盘清除装置,其特征在于该装置包括旋转六方体、基盘盒限位条、旋转圆盘、底板、升降电机、基盘盒限位盖、基盘托、剩余基盘检测传感器、传感器固定块、基盘盒、升降电机螺纹杆、旋转圆盘固定块及磁铁;所述旋转六方体位于该装置的上方,且以螺纹连接固定在旋转圆盘上,旋转圆盘通过旋转圆盘固定块与底板连接;旋转圆盘上间隔均匀安装各基盘盒限位条,每两个基盘盒限位条固定对应设于一个基盘盒底部;用于固定基盘盒顶部的基盘盒限位盖螺纹连接固定在旋转六方体上方,基盘盒通过镶嵌在其上的磁铁吸附在旋转六方体上的磁铁上;所述基盘盒内平行设置一基盘托,所述基盘托下方设有传感器固定块,剩余基盘检测传感器通过螺纹连接固定在传感器固定块上;传感器固定块通过其上设有的圆孔固定在升降电机螺纹杆上,且升降电机与升降电机螺纹杆连接。

本实用新型的有益效果是:本实用新型用于剩余基盘的清除,有效提高生产效率和质量,保证安全生产,避免不同类型的基盘的混淆。其结构简单,设计合理,操作简便,性能安全可靠,应用效果非常显著;且适用于大规模生产。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

图中:1旋转六方体,2基盘盒限位条,3旋转圆盘,4底板,5升降电机,6基盘盒限位盖,7基盘托,8剩余基盘检测传感器,9传感器固定块,10基盘盒,11升降电机螺纹杆,12旋转圆盘固定块,13磁铁。

具体实施方式

以下结合附图和较佳实施例,对依据本实用新型提供的具体实施方式、

结构、特征详述如下:

如图1所示,该装置包括旋转六方体1、基盘盒限位条2、旋转圆盘3、底板4、升降电机5、基盘盒限位盖6、基盘托7、剩余基盘检测传感器8、传感器固定块9、基盘盒10、升降电机螺纹杆11、旋转圆盘固定块12及磁铁13;该装置上方设有的旋转六方体1以螺纹连接方式固定在旋转圆盘3上,旋转圆盘3 通过旋转圆盘固定块12与底板4连接;旋转圆盘3上安装12个基盘盒限位条2,每两个基盘盒限位条2对应固定一个基盘盒10底部,基盘盒限位盖6以螺纹连接方式固定在旋转六方体1上方,其用于固定基盘盒10的顶部,基盘盒10通过镶嵌在其上的磁铁吸附在旋转六方体1上的磁铁13上;基盘盒10内放置一个基盘托7,基盘托7下方装有传感器固定块9,剩余基盘检测传感器8通过螺纹连接方式固定在传感器固定块9上,通过剩余基盘传感器8感测基盘盒10内的基盘托7上是否还有基盘存在,传感器固定块9通过其上设有的圆孔固定在升降电机螺纹杆11上,且升降电机5与升降电机螺纹杆11连接;所述升降电机5带动升降电机螺纹杆11动作,从而使得基盘在基盘盒10内进行上下移动。

工作原理:本实用新型用于剩余基盘的清除;该装置分为三部分:第一部分为动力部分,由电机带动基盘在基盘盒内进行上下移动;第二部分为检测部分,通过剩余基盘传感器感测基盘盒内有无基盘;第三部分为旋转部分,如果传感器感测基盘盒内无基盘,则旋转六方体进行旋转,旋转到下一个装有基盘的基盘盒位置。

应用时,先将六个基盘盒10固定在旋转六方体1上,并将基盘放置在基盘盒10内的基盘托7上,升降电机5带动升降电机螺纹杆11动作,升降电机螺纹杆11带动安装在其上的传感器固定块9动作,从而带动基盘托7上的基盘进行升降动作;通过以螺纹连接方式固定在传感器固定块9上的剩余基盘传感器8感测基盘托7上是否还有基盘,如果基盘托7上有基盘,则旋转六方体1不动作,若基盘托7上无基盘,则旋转六方体1进行旋转,旋转到下一个装有基盘的基盘盒10的位置。这样就可以保证基盘盒10内无剩余基盘存在,从而避免不同类型基盘的混淆。

上述参照实施例对该剩余基盘清除装置进行的详细描述,是说明性的而不是限定性的;因此在不脱离本实用新型总体构思下的变化和修改,应属本实用新型的保护范围之内。

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