[实用新型]新型硅/铜铟硒太阳电池结构无效
| 申请号: | 201120029030.7 | 申请日: | 2011-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN202034374U | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
| 发明(设计)人: | 王应民;李清华;王萌;李禾;程泽秀 | 申请(专利权)人: | 南昌航空大学 |
| 主分类号: | H01L31/0336 | 分类号: | H01L31/0336;H01L31/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 330063 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 新型 铜铟硒 太阳电池 结构 | ||
1.新型硅/铜铟硒太阳电池结构其特征在于:该新型太阳电池分为上电池和下电池,上电池为铜铟硒电池,下电池为硅电池,上电池沉积于下电池表面。
2.根据权利要求1所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池包括背电极、p-Si和n-Si,并在n-Si沉积p-Si表面。
3.根据权利要求1所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是上电池包括n+-ZnO薄膜、p+-CuAB2薄膜、Cu(In,A)B2薄膜、i-ZnO薄膜、ZnO:Al薄膜和镍铝上电极。其中n+-ZnO薄膜沉积于n-Si表面,p+-CuAB2和p-Cu(In,A)B2薄膜分别先后沉积于n+-ZnO薄膜表面,i-ZnO薄膜沉积于p-Cu(In,A)B2薄膜表面,其中A为Ga或Al,B为Se或S,ZnO:Al薄膜沉积于i-ZnO薄膜,最后在ZnO:Al薄膜蒸镀镍铝上电极。
4.根据权利要求1或2所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池采用p型多晶硅片,硅片电阻率为0.5Ω·cm-3.0Ω·cm,厚度为200μm,多晶硅片一面蒸镀镍铝作为背电极,另一面通过磷扩散得到n型硅。
5.根据权利要求1或2所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池采用钼导电玻璃为基体沉积的p-Si,然后在p-Si表面沉积为n-Si,方块电阻为40-80Ω/□。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





