[实用新型]新型硅/铜铟硒太阳电池结构无效

专利信息
申请号: 201120029030.7 申请日: 2011-01-28
公开(公告)号: CN202034374U 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 王应民;李清华;王萌;李禾;程泽秀 申请(专利权)人: 南昌航空大学
主分类号: H01L31/0336 分类号: H01L31/0336;H01L31/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330063 江*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 新型 铜铟硒 太阳电池 结构
【权利要求书】:

1.新型硅/铜铟硒太阳电池结构其特征在于:该新型太阳电池分为上电池和下电池,上电池为铜铟硒电池,下电池为硅电池,上电池沉积于下电池表面。

2.根据权利要求1所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池包括背电极、p-Si和n-Si,并在n-Si沉积p-Si表面。

3.根据权利要求1所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是上电池包括n+-ZnO薄膜、p+-CuAB2薄膜、Cu(In,A)B2薄膜、i-ZnO薄膜、ZnO:Al薄膜和镍铝上电极。其中n+-ZnO薄膜沉积于n-Si表面,p+-CuAB2和p-Cu(In,A)B2薄膜分别先后沉积于n+-ZnO薄膜表面,i-ZnO薄膜沉积于p-Cu(In,A)B2薄膜表面,其中A为Ga或Al,B为Se或S,ZnO:Al薄膜沉积于i-ZnO薄膜,最后在ZnO:Al薄膜蒸镀镍铝上电极。

4.根据权利要求1或2所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池采用p型多晶硅片,硅片电阻率为0.5Ω·cm-3.0Ω·cm,厚度为200μm,多晶硅片一面蒸镀镍铝作为背电极,另一面通过磷扩散得到n型硅。

5.根据权利要求1或2所述的新型硅/铜铟硒太阳电池结构,其特征是下电池采用钼导电玻璃为基体沉积的p-Si,然后在p-Si表面沉积为n-Si,方块电阻为40-80Ω/□。 

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