[实用新型]固定件、设置有所述固定件的石墨舟舟片及石墨舟无效
| 申请号: | 201120024788.1 | 申请日: | 2011-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN202039126U | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
| 发明(设计)人: | 侯保国;王在发;何悦;黄治国 | 申请(专利权)人: | 无锡尚德太阳能电力有限公司;尚德太阳能电力有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/44 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张昱;曹若 |
| 地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 固定 设置 有所 石墨 舟舟片 | ||
【技术领域】
本实用新型属于管式CVD(Chemical Vapour Deposition,化学气相沉积)设备技术领域,尤其涉及一种固定件、设置有所述固定件的石墨舟舟片及石墨舟。
【背景技术】
目前,在晶体硅电池片表面制作的减反膜基本上采用的是氮化硅膜,其不仅具有良好的光减反和表面钝化效果,而且同时也是具有优良的物理、化学性能的介质膜。在现在的太阳能电池生产工艺中,普遍采用的是化学气相沉积方式,而其中最常见的一种方式则是管式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition,等离子增强化学气相沉积)。
在管式CVD设备(例如Centrotherm公司制造的管式PECVD设备)的制程工艺中,为了实现一次性镀膜批量硅片而需要将硅片固定在具有特殊结构的石墨舟中,石墨舟作为硅片的承载工具,其常见方法是使用石墨材料的三个固定件(在业界亦被称为可拆卸卡点或工艺点)来对硅片进行固定。然而,在硅片于石墨舟上的插片和卸片过程中,硅片将与固定件接触并发生摩擦,当超过一定次数后,这些固定件会由于摩擦次数太多导致磨损,并且磨损严重的固定件会对镀膜效果、产品外观和质量产生不利影响。因此,在经过一定使用周期后就必须定期更换这些固定件,如此由于它们耗费多、维护成本高,所以增加了生产成本,并且影响到生产效率的提高。
【实用新型内容】
有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种固定件,以能够有效解决现有技术中存在的上述问题。
此外,本实用新型的目的还在于提供设置有上述固定件的石墨舟舟片及石墨舟,从而更好地解决上述问题,以满足例如晶体硅太阳能电池片等制程工艺的需要。
为实现上述实用新型目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种固定件,其具有工作区域,所述工作区域用于与硅片相接触以将所述硅片固定到石墨舟舟片上,所述固定件上设置有标识部,所述标识部将所述工作区域标识区分为至少两个区段。
在上述的固定件中,优选地,所述固定件呈哑铃形并且其中间部分的外圆周面为所述工作区域,所述标识部被设置于所述固定件的至少一个端部上。
在上述的固定件中,优选地,所述标识部包括至少两个被相互分开设置的标识符号,所述标识符号具有彼此相异的序号、字符、形状和/或颜色特征。
在上述的固定件中,优选地,所述标识部为由彼此相异的长度和/或形状构成的平面几何图形。
在上述的固定件中,优选地,所述固定件由石墨材料制成。
在上述的固定件中,优选地,所述硅片是单晶硅硅片或多晶硅硅片。
一种石墨舟舟片,在所述石墨舟舟片上设置有如以上任一项所述的固定件,所述固定件将硅片固定在所述石墨舟舟片上。
在上述的石墨舟舟片中,优选地,每一硅片均通过至少三个固定件固定在所述石墨舟舟片上,所述至少三个固定件分别对应硅片的三条边设置。
一种石墨舟,所述石墨舟包括至少一个如以上任一项所述的石墨舟舟片。
本实用新型的有益效果在于:采用本实用新型可以解决在例如管式PECVD设备中使用石墨舟时由于频繁更换固定件而造成成本过高、生产效率较低等问题,通过对固定件进行多次利用能够成倍地延长固定件的使用寿命,从而在不影响产品品质的情况下可以显著降低生产过程中固定件的耗用量,实现节省耗材、降低生产成本、保证产品质量并且有效提高生产效率的良好效果。
【附图说明】
以下将结合附图和实施例,对本实用新型的技术方案作进一步的详细描述。其中:
图1是本实用新型中石墨舟和石墨舟舟片的结构示意图;
图2是通过本实用新型的固定件将硅片固定到石墨舟舟片上的一个示例的结构示意图;
图3是本实用新型中固定件的一个示例的侧视图;
图4是图3中示例的俯视图,在该图中示出了固定件上工作区域中的已磨损区段和未磨损区段的位置;以及
图5是图3中示例的俯视图,在该图中示出了通过旋转固定件后的工作区域中的已磨损区段和未磨损区段的位置。
附图标记说明:
1 石墨舟 2 墨舟舟片
3 硅片 4 固定件
5 工作区域 6 标识部
7 螺栓 8 螺母
9 定位件 51 已磨损区段
52 未磨损区段
【具体实施方式】
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





