[实用新型]连续步进式油缸抛光、清洗机有效

专利信息
申请号: 201120018724.0 申请日: 2011-01-20
公开(公告)号: CN201989035U 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: 陈浩军 申请(专利权)人: 无锡英特帕普威孚液压有限责任公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B55/06
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 连续 步进 式油缸 抛光 清洗
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种油缸抛光、清洗机,尤其是一种连续步进式油缸抛光、清洗机。

背景技术

目前,国内使用的油缸抛光、清洗机都从国外进口,结构复杂,维修不方便,设备造价高。而国内没有自主的油缸抛光、清洗一体机,只有单一的抛光机和清洗机,要完成抛光、清洗需要两台机器,而且两台机器之间不能有机连接,需要工作人员从旁协助,工作效率低。

发明内容

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种可连续进行抛光、清洗工作、结构简单、设备造价低、工作效率高的连续步进式油缸抛光、清洗机。

按照本实用新型提供的技术方案,所述连续步进式油缸抛光、清洗机,它包括在机架上设置的抛光装置、清洗装置,所述的抛光装置包括在机架上固定均匀间隔设置的抛光承载托架,在抛光承载托架上方的机架安装有竖直升降、内外平移抛光轮机构,在竖直升降、内外平移抛光轮机构下方设有油缸升降机构、油缸平移机构与油缸顶升机构,油缸升降机构与油缸平移机构相连接,在油缸顶升机构的上方设有回转顶针机构,所述的回转顶针机构与油缸顶升机构配合,回转顶针机构与竖直升降、内外平移抛光轮机构配合;所述的清洗装置包括在机架上设置的回转链条,在回转链条上固定均匀间隔安装有清洗承载托架,在回转链条单边的上下方设有清洗喷头;相邻两个抛光承载托架之间的距离与相邻两个清洗承载托架之间的距离相同。

所述的竖直升降、内外平移抛光轮机构包括在机架上转动安装的内外方向架设的丝杆,在丝杆上螺接有滑块,在滑块上竖直滑动安装有抛光轮导柱,在抛光轮导柱的底端部转动安装有抛光轮。

所述的油缸升降机构包括在平移架上安装的油缸升降汽缸,在油缸升降汽缸的活塞杆端部安装有步进转接托架。

所述的油缸平移机构包括在机架上安装的油缸平移汽缸,油缸平移汽缸的活塞杆与所述的平移架相连。

所述的油缸顶升机构包括在所述抛光轮下方的机架上安装的油缸顶升汽缸,油缸顶升汽缸的活塞杆端部固定安装有顶升托架。

所述的回转顶针机构包括在所述抛光轮下方的机架上安装的回转顶针。

所述的清洗承载托架呈内低外高的倾斜设置。

本实用新型可连续进行抛光、清洗工作,本实用新型具有结构简单、设备造价低与工作效率高等优点。

附图说明

图1是本实用新型的主视图。

图2是本实用新型的俯视图。

图3是图1的A-A剖视图。

图4是图1的B-B剖视图。

具体实施方式

下面结合具体附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

如图所示:该连续步进式油缸抛光、清洗机,它包括在机架1上设置的抛光装置、清洗装置,所述的抛光装置包括在机架1上固定均匀间隔设置的抛光承载托架2,在抛光承载托架2上方的机架1安装有竖直升降、内外平移抛光轮机构,在竖直升降、内外平移抛光轮机构下方设有油缸升降机构、油缸平移机构与油缸顶升机构,油缸升降机构与油缸平移机构相连接,在油缸顶升机构的上方设有回转顶针机构,所述的回转顶针机构与油缸顶升机构配合,回转顶针机构与竖直升降、内外平移抛光轮机构配合;所述的清洗装置包括在机架1上设置的回转链条3,在回转链条3上固定均匀间隔安装有清洗承载托架4,在回转链条3单边的上下方设有清洗喷头5;相邻两个抛光承载托架2之间的距离与相邻两个清洗承载托架4之间的距离相同。

所述的竖直升降、内外平移抛光轮机构包括在机架1上转动安装的内外方向架设的丝杆15,在丝杆15上螺接有滑块16,在滑块16上竖直滑动安装有抛光轮导柱6,在抛光轮导柱6的底端部转动安装有抛光轮7。

所述的油缸升降机构包括在平移架8上安装的油缸升降汽缸9,在油缸升降汽缸9的活塞杆端部安装有步进转接托架10。

所述的油缸平移机构包括在机架1上安装的油缸平移汽缸11,油缸平移汽缸11的活塞杆与所述的平移架8相连。

所述的油缸顶升机构包括在所述抛光轮7下方的机架1上安装的油缸顶升汽缸12,油缸顶升汽缸12的活塞杆端部固定安装有顶升托架13。

所述的回转顶针机构包括在所述抛光轮7下方的机架1上安装的回转顶针14。所述的清洗承载托架4呈内低外高的倾斜设置。

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