[实用新型]一种电容式触摸屏

说明书

所属技术领域

本实用新型涉及光电设备领域，具体地，涉及一种具有较薄厚度的电容式触摸屏。

背景技术

随着电子科技的飞速发展，目前对于各种显示设备，较多一部分具有触控功能，其主要功能部件为触摸屏。

目前在小型显示设备上的触摸屏主要包括电阻式触摸屏、电容式触摸屏、压电式触摸屏三种，而电阻式触摸屏性能较差，压电式触摸屏成本较大，因此，电容式触摸屏的应用市场前景较好，对于电容式触摸屏的发展与改进，具有巨大意义。

现有的电容式触摸屏，主要有如下两种结构：

其一如图2所示：从外到内(相对于显示屏而言)分别包括覆盖层1、掩膜层2、光学胶层3、导电玻璃层4，其中，导电玻璃层4两侧各涂覆一层导电层41，其内侧的导电层41用于屏蔽电子设备的电磁信号，避免影响触摸屏正常工作，外侧的导电层41作为工作面，制有电路结构，与人体手指之间构成耦合电容。图2所示的电容屏结构较为简单，但导电玻璃层4的厚度较大，在500um以上，电容屏总厚度在1108um左右。

其二如图3所示，从外到内(相对于显示屏而言)分别包括覆盖层1、掩膜层2、光学胶层3、导电膜片5、光学胶层3、导电膜片5，所述的导电膜片5只有一个面上涂覆导电层51(受工艺限制)，其工作原理与图2所示的电容屏相同，该结构较图2所示电容屏的结构复杂，然而所述导电膜片5 的厚度最小仅为50um，远小于图2所示的导电玻璃层4，因此，图3所示的电容屏总厚度在658um左右。

从上述两种电容屏结构可知，要制造超薄电容屏，则因采用导电膜片5作为基材，然而如图3所示的电容屏，总共包括6层结构，分别为覆盖层1、掩膜层2、光学胶层3、导电膜片5、光学胶层3、导电膜片5，由于结构层数较多，因此其总厚度仍然较大，为追求更薄厚度的电容式触摸屏，仍然有必要对其作进一步的结构改进。

发明内容

对于上述的问题，本实用新型的目的在于提供一种电容式触摸屏，该电容式触摸屏不仅具有传统电容屏的优良触摸性能，并且较传统电容屏具有更薄的厚度。

本实用新型所采用的技术方案是：该电容式触摸屏从外向内包括覆盖层、掩膜层、导电层，所述导电层直接镀于涂有所述掩膜层的所述覆盖层内表面，且所述导电层上制有电路结构，所述导电层再通过一光学胶层与一层导电膜片相贴合。

作为优选，所述掩膜层的厚度小于500nm，从而使镀于其表面的所述导电层具有良好的电阻性。

作为优选，所述导电层由氧化铟锡构成。

作为优选，所述导电膜片的厚度为50um～300um。

本实用新型的有益效果在于：该电容式触摸屏在结构上较图3所示的电容屏，少用了一层光学胶和一层导电膜片，它将一层导电膜片的导电层直接镀于涂有掩膜层的覆盖层下方，从而在很大程度上降低了整个结构的厚度，可使电容屏的总厚度控制在576um左右，小于两种传统电容屏的厚度。

附图说明

图1是本电容式触摸屏的结构示意图。

图2是一种传统电容屏的结构示意图。

图3是另一种传统电容屏的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

在图1所示的实施例中，该电容式触摸屏从外向内包括覆盖层1、掩膜层2、导电层11，所述导电层11直接镀于涂有所述掩膜层2的所述覆盖层1内表面，且所述导电层11上制有电路结构，所述导电层11再通过一光学胶层3与一层导电膜片5相贴合。

所述掩膜层2由非导电性光学膜经物理涂布技术涂于所述覆盖层1上。

所述导电层11以真空镀膜技术镀于涂有所述掩膜层2的所述覆盖层1内表面。

上述的电容式触摸屏，所述掩膜层2的厚度小于500nm，从而使镀于其表面的所述导电层11具有良好的电阻性。

上述的电容式触摸屏，所述导电层11由氧化铟锡构成。

上述的电容式触摸屏，所述导电膜片的厚度为50um～300um，其下表面为用于屏蔽电子设备电磁干扰的薄膜导电层51，亦由氧化铟锡构成。

上述的电容式触摸屏在结构上较图3所示的电容屏，少用了一层光学胶层3和一层导电膜片5，它将一层导电膜片5的导电层直接镀于涂有掩膜层2的覆盖层1下方，从而在很大程度上降低了整个结构的厚度，可使电容屏的总厚度控制在576um左右，小于两种传统电容屏的厚度。