[实用新型]硅晶微麦克风装置有效

专利信息
申请号: 201120007947.7 申请日: 2011-01-12
公开(公告)号: CN202004962U 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 张小麟;杨斌;孟珍奎;颜毅林;张睿;葛舟;王琳琳 申请(专利权)人: 瑞声声学科技(深圳)有限公司;瑞声科技(新加坡)有限公司
主分类号: H04R19/04 分类号: H04R19/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 硅晶微 麦克风 装置
【权利要求书】:

1.一种硅晶微麦克风装置,包括硅基、振膜、背极板、背电极以及至少两键合用焊盘,该硅基支撑该背极板及该振膜,该背极板支撑该背电极,该两键合用焊盘之一设置于该背电极上,该两键合用焊盘之二的一部分设置于该振膜上,另一部分设置于该背电极上,其特征在于:还包括保护层,该保护层一部分不完全覆盖该两键合用焊盘表面,另一部分连接该背电极。

2.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层是金属钝化层,覆盖该键合用焊盘周边的表面。

3.根据权利要求2所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该金属钝化层是氮化硅材料,或者是氮化硅与氧化硅的复合层材料。

4.根据权利要求3所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层还包括金属支架层,该金属支架层部分地覆盖该键合用焊盘表面,该金属支架层还与该背电极连接,该金属钝化层设置于该金属支架层表面。

5.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该键合用焊盘是两个或多个。

6.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层是单层结构或多层结构。

7.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层厚度是0.1到4.0微米。

8.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:其中该背极板厚度为0.5-7.0微米。

9.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:其中该振膜的厚度为0.1-4.0微米。

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