[实用新型]硅晶微麦克风装置有效
申请号: | 201120007947.7 | 申请日: | 2011-01-12 |
公开(公告)号: | CN202004962U | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 张小麟;杨斌;孟珍奎;颜毅林;张睿;葛舟;王琳琳 | 申请(专利权)人: | 瑞声声学科技(深圳)有限公司;瑞声科技(新加坡)有限公司 |
主分类号: | H04R19/04 | 分类号: | H04R19/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518057 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 硅晶微 麦克风 装置 | ||
1.一种硅晶微麦克风装置,包括硅基、振膜、背极板、背电极以及至少两键合用焊盘,该硅基支撑该背极板及该振膜,该背极板支撑该背电极,该两键合用焊盘之一设置于该背电极上,该两键合用焊盘之二的一部分设置于该振膜上,另一部分设置于该背电极上,其特征在于:还包括保护层,该保护层一部分不完全覆盖该两键合用焊盘表面,另一部分连接该背电极。
2.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层是金属钝化层,覆盖该键合用焊盘周边的表面。
3.根据权利要求2所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该金属钝化层是氮化硅材料,或者是氮化硅与氧化硅的复合层材料。
4.根据权利要求3所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层还包括金属支架层,该金属支架层部分地覆盖该键合用焊盘表面,该金属支架层还与该背电极连接,该金属钝化层设置于该金属支架层表面。
5.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该键合用焊盘是两个或多个。
6.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层是单层结构或多层结构。
7.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:该保护层厚度是0.1到4.0微米。
8.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:其中该背极板厚度为0.5-7.0微米。
9.根据权利要求1所述的硅晶微麦克风装置,其特征在于:其中该振膜的厚度为0.1-4.0微米。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞声声学科技(深圳)有限公司;瑞声科技(新加坡)有限公司,未经瑞声声学科技(深圳)有限公司;瑞声科技(新加坡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120007947.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种便携移动式无线防盗报警器
- 下一篇:一种壁灯