[发明专利]包含碱‑反应性组分的组合物和光刻方法

权利要求书

1.一种处理光致抗蚀剂组合物的方法，包含：

(a)在基材上施加一种光致抗蚀剂组合物，其包含：

(i)一种或多种树脂、

(ii)光敏组分，和

(iii)一种或多种包含碱一反应性基团的材料，所述一种或多种材料与上述一种或多种树脂不同；和

(b)干燥曝光上述施加的光致抗蚀剂层以辐射活化光致抗蚀剂组合物。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料与所述一种或多种树脂是基本上不可溶混的。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料在上述施加期间向所述光致抗蚀剂组合物层的上部迁移。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，(iii)一种或多种材料具有比(i)一种或多种树脂更低的表面能。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含与碱反应生成羟基、羧基或磺酸基的基团。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述包含碱-反应性基团的一种或多种材料包含树脂，和包含含有多个碱反应性部分的重复单元的碱反应性树脂。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，所述碱反应性基团包含氟化酯。

8.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含一个或多个氟化基团或氟-取代的基团。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料是树脂。

10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，所述一种或多种材料包含光酸-不稳定的基团。

11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，进一步包含用水性碱性显影剂显影所述曝光的光致抗蚀剂层，由此一种或多种碱-反应性基团经受键-断裂反应以生成一种或多种极性基团。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，显影之后的所述光致抗蚀剂层具有小于30°的水接触后退角，和/或显影之前的所述光致抗蚀剂层具有超过40°的水接触后退角。