[发明专利]从镀液中去除杂质的方法有效
| 申请号： | 201110463301.4 | 申请日： | 2011-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102534701A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 羽切义幸 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/32 | 分类号： | C25D3/32;C25D3/60 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 樊云飞 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镀液中 去除 杂质 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，包括：
a)提供包含一种或多种锡离子源和硫脲或硫脲化合物的溶液；
b)在所述溶液中添加有机磺酸、有机磺酸化合物或其盐，以及
c)冷却所述溶液以产生沉淀。
2.如权利要求1所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，进一步包括在铜或铜合金上无电镀镀覆锡或锡合金。
3.如权利要求2所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，在铜或铜合金上无电镀镀覆锡或锡合金的温度范围为50-75℃。
4.如权利要求1所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，在镀池中通过分离单元循环部分或全部溶液来过滤沉淀。
5.如权利要求1所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，所述有机磺酸、有机磺酸化合物或其盐的量为20到500g/L。
6.如权利要求5所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，所述有机磺酸、有机磺酸化合物或其盐的量为50到400g/L。
7.如权利要求1所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，冷却的溶液的温度范围是5-40℃。
8.如权利要求7所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，冷却的溶液的温度范围是10-20℃。
9.如权利要求1所述的从锡或锡合金镀液中去除杂质的方法，其特征在于，沉淀包括铜，镍，锌，铬，钼或钨。
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