[发明专利]一种具有温漂补偿的电容湿度传感器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110456757.8 申请日: 2011-12-31
公开(公告)号: CN102565149A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 秦明;周永丽;黄见秋 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01N27/22 分类号: G01N27/22
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 王玉梅
地址: 214135 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 补偿 电容 湿度 传感器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种具有温漂补偿的电容湿度传感器,其特征是,包括半导体衬底层、绝缘层、感湿悬臂以及感应电极;其中:

绝缘层覆盖于半导体衬底层的上表面;

感湿悬臂的一端固定于绝缘层上,另一端位于绝缘层的上方并悬空;感湿悬臂由从下到上依次叠置的第一湿敏材料层、隔湿层和第二湿敏材料层组成;其中第一湿敏材料层与第二湿敏材料层的厚度相同; 

感应电极包括上电极和下电极;上电极覆盖感湿悬臂中第一湿敏材料层的下表面,并固定;下电极固定于绝缘层上;且上电极悬空的一端平行于下电极,并位于下电极的上方。

2.根据权利要求1所述的具有温漂补偿的电容湿度传感器,其特征是,感湿悬臂中第一湿敏材料层、第二湿敏材料层的厚度大于隔湿层、上电极的厚度。

3.一种制造权利要求1或2所述的具有温漂补偿的电容湿度传感器的方法,其特征是,包括以下步骤:

(1)选取硅片作为半导体衬底层的材料;

(2)对半导体衬底层进行氧化,使得在半导体衬底层的上表面氧化形成绝缘层;

(3)在绝缘层上溅射一层金属薄膜,并光刻刻蚀形成下电极;

(4)在绝缘层上旋涂光刻胶,并光刻形成牺牲层;牺牲层覆盖下电极的一个端部;

(5)在牺牲层上表面溅射一层金属薄膜,并对金属薄膜进行光刻形成上电极,且上电极的一端平行于下电极,并位于下电极的上方;

(6)在上电极的上表面旋涂一层湿敏材料,作为第一湿敏材料层;并在第一湿敏材料层的上表面通过等离子增强化学气象沉积法形成隔湿薄膜,作为隔湿层;再在隔湿层的上表面旋涂一层湿敏材料,作为第二湿敏材料层;

(7)对第一湿敏材料层、隔湿层以及第二湿敏材料层叠置形成的整体进行光刻,使得上电极覆盖第一湿敏材料层的下表面;

(8)利用丙醇释放步骤(4)中形成的牺牲层,使得第一湿敏材料层、隔湿层、第二湿敏材料层以及上电极位于牺牲层上方的端部悬空;第一湿敏材料层、隔湿层与第二湿敏材料层叠置形成的整体呈悬臂结构,即为感湿悬臂。

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