[发明专利]等离子显示屏的介质保护膜及其制作方法和含有其的等离子显示屏有效
| 申请号： | 201110455920.9 | 申请日： | 2011-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN102522296A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 邢芳丽;罗向辉 | 申请（专利权）人： | 四川虹欧显示器件有限公司 |
| 主分类号： | H01J11/40 | 分类号： | H01J11/40;H01J11/10 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴贵明;余刚 |
| 地址： | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子 显示屏 介质 保护膜 及其 制作方法 含有 | ||
1.一种等离子显示屏介质保护膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)在介质层上形成晶种层；
2)在所述晶种层上形成所述介质保护膜。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述形成晶种层的方法包括：将晶种通过浆料涂布、喷涂、静电吸附、物理摩擦或化学反应生成的方式布置在所述介质层上。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述形成介质保护膜的方法是将介质保护膜材料通过真空沉积法形成在所述晶种层上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制作方法，其特征在于，所述晶种包括：
MgO单晶颗粒；或者
掺杂型MgO晶体，其中，掺杂元素包括Ca、Zn、Si、Sc、Ti和Ni中的一种或多种，所述掺杂型MgO晶体为物理混合物、固溶体或合金；或者
选自由碳纳米管、ZnO、BeO、CaO、SrO、BaO、La2O5、LaB6、Mo和W组成的组中的任意一种或多种。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述真空沉积法包括：电子束蒸镀法、离子镀法、溅射法和化学气相沉积法。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述晶种的粒径为5～1000nm，所述晶种层的厚度为10～1000nm，覆盖度为0.1～100％。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述介质保护膜的厚度为50～1000nm。
8.一种等离子显示屏的介质保护膜，其特征在于，所述介质保护膜通过权利要求1-7任一项所述的制作方法制作而成。
9.一种等离子显示屏，包括：前基板、PDP放电电极和后基板，其特征在于，所述前基板包含权利要求8所述的介质保护膜。
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