[发明专利]低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针及其制造方法

权利要求书

1.一种低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针的制造方法，其特征在于所述制造方法包括以下步骤：

清洗Si探针；

将清洗后的Si探针固定在磁控溅射仪的样品室中，并且将样品室抽真空，此后，通入高纯惰性气体，使样品室的气体压力维持在0.1-0.5帕；

通过磁控溅射方式将CoPt磁性合金溅射到Si探针表面，从而得到具有磁性涂层的Si探针；

将获得的具有磁性涂层的Si探针在真空条件下加热到500℃-750℃，热处理15-180分钟，使得磁性合金转化为L1₀-CoPt合金，从而获得低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针。

2.根据权利要求1所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针的制造方法，其特征在于采用丙酮或酒精清洗Si探针。

3.根据权利要求1所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针的制造方法，其特征在于在将CoPt磁性合金溅射到Si探针表面的步骤中，溅射时间为1分钟-30分钟，溅射功率为5瓦-30瓦，从而得到厚度为10nm-30nm的磁性涂层。

4.根据权利要求1所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针的制造方法，其特征在于在CoPt磁性合金中，Pt原子占Co和Pt的原子总数的45％-55％。

5.根据权利要求1所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针的制造方法，其特征在于通过电磁感应或电弧熔炼将Co和Pt金属按照一定比例熔为一体，从而形成CoPt磁性合金。

6.一种低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针，其特征在于所述探针包括由CoPt合金形成的磁性涂层。

7.根据权利要求6所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针，其特征在于在CoPt磁性合金中，Pt原子占Co和Pt的原子总数的45％-55％。

8.根据权利要求6所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针，其特征在于所述探针的有效磁矩小于1×10^-13EMU。

9.根据权利要求6所述的低磁矩高矫顽力的磁力显微镜探针，其特征在于所述探针的矫顽力大于5000Oe。