[发明专利]镀膜件及其制备方法无效
申请号: | 201110450593.8 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN103182804A | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 陈文荣;陈正士;李聪 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B15/00;B32B27/00;C23C14/35;C23C14/08;B05D5/06;B05D7/04;B05D7/14;B05D1/02 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种镀膜件,其包括基材,其特征在于:该镀膜件还包括形成于基材表面的透明层、形成于透明层表面的第一颜色层、形成于第一颜色层表面的第一树脂层、形成于第一树脂层部分表面的第二颜色层,以及形成于第二颜色层和第一树脂层表面的第二树脂层;该透明层为氮氧化铝或氮氧化硅层,该第一颜色层和第二颜色层为钛、铬、锌和铝中的至少一种金属的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物,该第一树脂层和第二树脂层均为透明的树脂层。
2.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该第一树脂层和第二树脂层均为聚乙烯树脂层。
3.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该透明层为经抛光处理过的,该透明层的厚度为600-800nm。
4.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该第一颜色层的厚度为500-800nm。
5.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该第一树脂层的厚度为3-5μm。
6.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:第二颜色层的厚度为500-800nm。
7.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:第二树脂层的厚度为3-5μm。
8.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该基材的材质为不锈钢、铝合金或镁合金。
9.如权利要求1所述的镀膜件,其特征在于:该镀膜件还包括形成于基材与透明层之间的打底层。
10.如权利要求9所述的镀膜件,其特征在于:该打底层为硅层或铝层,打底层的厚度为50-200nm。
11.一种镀膜件的制备方法,其包括如下步骤:
提供基材;
在该基材的表面形成透明层,该透明层为氮氧化铝或氮氧化硅层;
在该透明层的表面形成第一颜色层,该第一颜色层为钛、铬、锌和铝中的至少一种金属的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物;
在该第一颜色层的表面形成第一树脂层,该第一树脂层为透明的树脂层;
采用曝光显影技术或者胶带遮蔽的方式,在第一树脂层的表面形成遮蔽区;
在形成有遮蔽区的第一树脂层的表面形成一第二颜色层,形成第二颜色层的方法与形成第一颜色层的方法相同,第二颜色层为钛、铬、锌和铝中的至少一种金属的碳化物、氮化物、碳氮化物、氮氧化物或碳氧化物;
去除遮蔽区上的胶带或遮蔽油墨;
在第二颜色层的表面和第一树脂层未被第二颜色覆盖的表面喷涂一第二树脂层,该第二树脂层为透明的树脂层。
12.如权利要求11所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:形成所述透明层的方法为:采用磁控溅射法,使用铝靶或硅靶,控制基材的温度为20-200℃,设置铝靶或硅靶的功率为5-8Kw,以氩气为工作气体,氩气的流量为100-300sccm,以氧气和氮气为反应气体,氧气的流量为50-200sccm,氮气的流量为80-300sccm,对基材施加的偏压为(-100)-(-300)V,镀膜时间为15-35min;然后对溅射形成的膜层进行抛光处理。
13.如权利要求11所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:形成所述第一颜色层和第二颜色层的方法为:采用磁控溅射法,使用第二靶材,第二靶材为铝靶、锌靶、钛靶或铬靶,设置第二靶材的功率为8-10Kw,以氩气为工作气体,氩气的流量为100-300sccm,反应气体为乙炔、氮气和氧气中的一种或一种以上,对基材施加的偏压为(-100)-(-300)V,镀膜时间为30-45min。
14.如权利要求11所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:该方法还包括在形成透明层之前,在基材的表面形成打底层,该打底层设置于与透明层之间。
15.如权利要求14所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:形成所述打底层的方法为:采用磁控溅射法,使用铝靶或硅靶,控制基材的温度为20-200℃,设置铝靶或硅靶的功率为5-8Kw,以氩气为工作气体,氩气的流量为100-300sccm,对基材施加的偏压为(-100)-(-300)V,镀膜时间为10-30min。
16.如权利要求11所述的镀膜件的制备方法,其特征在于:该第一树脂层和第二树脂层均为聚乙烯树脂层,且均采用喷涂的方法形成。
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