[发明专利]一种基片光学特性的在线膜厚直接监测系统及方法

权利要求书

1.一种基片光学特性的在线膜厚直接监测方法， 具体为：首先，在基片的镀膜过程中，将光源垂直照射在接近旋转卡具中心的外侧放置的监测基片上，通过光接收器采集反射或透射的光信号，并根据采集到的光信号得到基片的镀制膜厚；其次，将监测到的膜厚与所需膜厚进行比较，根据比较结果控制是否继续镀制；再次，重复上述步骤直至监测基片上膜层镀制完毕。

2.如权利要求1所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测方法，其特征在于，所述光源可以设置在镀膜机的真空室内，通过光源固定支架支撑；或者，所述光源设置在镀膜机的真空室外，并将光源发出的光线由光纤引入至真空室内；或者，在所述真空室上设置透视窗将所述光源发出的光线自透视窗引入。

3.如权利要求2所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测方法，其特征在于，所述光源固定支架可以调节其上固定的光源照射在监测基片上的光线入射角度。

4.如权利要求1所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测方法，其特征在于，所述旋转卡具旋转一周后，控制所述光接收器采集所述光信号或者所述光接收器实时采集所述光信号。

5.一种基于如权利要求1-4任一所述方法的基片光学特性的在线膜厚直接监测系统，包括光源、真空室、蒸发源、光接收器、主控系统和旋转卡具，其特征在于，所述光源照射在接近旋转卡具中心的外侧固定的监测基片上，通过光接收器采集反射或透射的光信号传送至主控系统处理得到镀膜厚度。

6.如权利要求5所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测系统，其特征在于，所述光源可以设置在镀膜机的真空室内，通过光源固定支架支撑；或者，所述光源设置在镀膜机的真空室外，并将光源发出的光线由光纤引入至真空室内；或者，在所述真空室上设置透视窗将所述光源发出的光线自透视窗引入。

7.如权利要求6所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测系统，其特征在于，所述光源固定支架可以调节其上固定的光源照射在监测基片上的光线入射角度。

8.如权利要求5所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测系统，其特征在于，所述监测系统还包括触发发送装置和触发接收装置，所述触发接收装置设置在所述真空室侧壁上并与所述主控系统相连，所述触发发送装置设置在所述旋转卡具上，当所述触发发送装置移动到与所述触发接收装置相对位置后，触发接收装置收到触发发送装置发出的触发信号，通过与其相连的主控系统控制所述光接收器采集所述光信号。

9.如权利要求5所述的基片光学特性的在线膜厚直接监测系统，其特征在于，所述旋转卡具旋转一周后，控制所述光接收器采集所述光信号或者所述光接收器实时采集所述光信号。