[发明专利]一种电容式触摸屏

说明书

技术领域

本发明涉及一种触摸屏，特别是涉及一种电容式触摸屏。

背景技术

随着电子技术的发展和信息科技的进步，将两者完美结合形成触摸屏技术。根据实现原理触摸屏技术可以分成很多种。最普遍采用的有电阻式触摸屏和电容式触摸屏，其中电容式触摸屏是近年发展起来的新技术。电阻式触摸屏以其制造简单，低成本，容易实现，使其成为早期的触摸屏最广为采用的技术，各领域都有大量的产品应用。但是随着电阻式触摸屏的大量使用，诸如表面不耐磨损、透光率差、不能实现精准定位、随着时间延续定位精度变差、不能实现复杂的触摸功能、使用寿命短等缺陷逐渐突出出来。电容式触摸屏完全克服了电阻式触摸屏的不足，可以实现各种复杂的触摸功能。

电容式触摸屏以其结构和检测触摸点的方式可分类为自电容式和互电容式触摸屏。现有的电容式触摸屏有多种结构形式，每种形式的电容式触摸屏都存在以下基本结构：

两层电极的电容式触摸屏的结构通常由两层内表面覆有ITO导电镀膜的玻璃基板构成电容的两个电极，在两个电极极板间组合有绝缘材料的隔离层。隔离层的上表面涂布OCA光学固化胶，上表面与上层电极基板下表面对位，真空覆膜粘合，然后在隔离层的下表面涂布OCA光学固化胶，与下电极基板的上表面对位，真空覆膜粘合。

在上层电极基板的外表面上叠加一层保护层。保护层的下表面涂布OCA光学固化胶，然后和上层电极基板的上表面间对位，真空覆膜粘合。

在对位粘合后组成的电容式触摸屏的保护层的上表面附着一层AR减反射薄膜，形成电容式触摸屏。AR减反射薄膜也可以在上层电极基板与隔离层对位附着前先附着在上层电极基板的外表面上。

上述方法制造的电容式触摸屏，制作程序繁琐、结构复杂，两层ITO导电膜加上中间隔离层材料会使屏板的透光性有较大损失；制造成本较高；而且制造中需要多次对位、真空覆膜操作，对生产过程的良品率有很大的影响。另外上述方法制造的电容式触摸屏，厚度尺寸较大，难以适于对便携高要求的电子产品的需求。

发明内容

本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种制造工艺简单、生产成本低的电容式触摸屏。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种电容式触摸屏，包括基板组件和盖板组件；

所述基板组件包括基板，所述基板的上下表面均镀有SiO₂膜，两个所述SiO₂膜上均形成有条状钼铝钼丝网电极组，两个条状钼铝钼丝网电极组互相垂直，每个条状钼铝钼丝网电极组上均覆盖有钝化膜，

所述盖板组件包括盖板，所述盖板的上表面上镀有防护膜，所述盖板的下表面上镀有AR减反射膜，所述AR减反射膜的四周设有油墨视窗窗口；

所述盖板组件的下面和所述基板组件的上面粘接。

位于上部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的X行钼铝钼丝网电极，所述X行钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，对角线与X轴线平行；

位于下部的所述条状钼铝钼丝网电极为若干个形状相同的Y列钼铝钼丝网电极，所述Y列钼铝钼丝网电极的网孔为正方形，网孔的对角线与Y轴线平行。

所述条状钼铝钼丝网电极的厚度为300纳米，形成所述条状钼铝钼丝网电极的金属膜的表面电阻为0.3Ω/口。

所述X行钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米；所述Y列钼铝钼丝网电极的钼铝钼丝线的间距为200-350微米，钼铝钼丝线的线宽为8-12微米。

所述SiO₂膜的厚度为30纳米。

所述基板为厚度是0.1-3mm的化学强化玻璃板。

所述盖板为厚度是0.4-2mm的PMMA板、厚度是0.4-2mm的PC板、厚度是0.4-2mm的PC/PMMA复合板和厚度是0.4-2mm的化学强化玻璃板中的任意一种。

本发明具有的优点和积极效果是：采用一层化学强化玻璃，在化学强化玻璃的两面采用低成本的金属材料做电容极板电极，并克服了金属不透光的问题；触摸屏的整个制造过程无需真空覆膜对位，极大地简化了制造工艺；制造中没有采用价格高昂的稀土材料，使制造成本、生产效率和产品优良率都大为提升。并且本发明结构简单，厚度可以做得很薄，适于广泛作为手持电子产品的信息输入设备。

附图说明

图1为本发明的侧视图；

图2为本发明X行钼铝钼丝网电极的结构示意图；

图3为本发明Y列钼铝钼丝网电极的结构示意图；